[发明专利]一种阵列基板、其制作方法及显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上紧密排列的多个子像素区域，每个所述子像素区域被配置为发出同一颜色的光，相邻两个所述子像素区域之间存在第一间距；

所述子像素区域内包括多个相互绝缘设置的子像素电极，相邻两个所述子像素电极之间存在第二间距，且所述第二间距小于所述第一间距；

其中，各所述子像素电极通过纳米压印工艺形成。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于所述衬底基板与所述子像素电极之间的驱动电路；

所述驱动电路与所述子像素电极一一对应设置，所述子像素电极通过过孔与所述驱动电路电连接。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，位于同一所述子像素区域内的多个过孔不完全位于同一延伸方向上。

4.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述子像素电极包括多个条状电极块，每个所述条状电极块均与所述子像素电极对应的过孔存在交叠区域。

5.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述子像素电极包括多个异形条状电极，每个所述异形条状电极包括多个相互电连接的矩形电极块或圆形电极块；

相邻两个所述异形条状电极的所述矩形电极块或所述圆形电极块交错设置。

6.如权利要求1-5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述第一间距的取值范围为5μm～20μm；

所述第二间距的取值范围为10nm～90nm。

7.如权利要求1-5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述子像素电极的材料包括：导电氧化物或高功函金属。

8.一种如权利要求1-7任一项所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板的各子像素区域内通过纳米压印的方法形成多个相互绝缘的子像素电极。

9.如权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在形成所述子像素电极之前，所述方法还包括：

在所述衬底基板上形成与各所述子像素电极对应设置的驱动电路，以及位于所述驱动电路背离所述衬底基板一侧的平坦化层；

在所述平坦化层上形成与所述子像素电极对应的过孔。

10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的阵列基板。