[发明专利]一种耐光超分子有机晶体材料及其制备方法在审
申请号: | 201911106037.1 | 申请日: | 2019-11-13 |
公开(公告)号: | CN110837196A | 公开(公告)日: | 2020-02-25 |
发明(设计)人: | 蔡斌;田甜;徐公杰;王云坤;范成;朱兰芳;侯娇杰;方明月 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | G02F1/355 | 分类号: | G02F1/355;G02F1/361 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 徐俊 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 耐光超 分子 有机 晶体 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种耐光超分子有机晶体材料的制备方法,其特征在于,包括:将作为客体分子的有机晶体分子包合在主体分子空腔中,形成多分子包合物或单分子包合物,即得耐光超分子有机晶体材料。
2.如权利要求1所述的耐光超分子有机晶体材料的制备方法,其特征在于,所述主体分子具有桶状或环状分子结构,所述主体分子为环糊精及其衍生物、邻麝香草酸的环内酯,如邻麝香草酸的环三内酯、邻麝香草酸的环四内酯中的任意一种。
3.如权利要求2所述的耐光超分子有机晶体材料的制备方法,其特征在于,所述环糊精衍生物为α-环糊精、β-环糊精、γ-环糊精、二甲基-环糊精、三甲基-环糊精、支连-环糊精、羟丙基-环糊精中的任意一种。
4.如权利要求1所述的耐光超分子有机晶体材料的制备方法,其特征在于,所述的有机晶体分子为二甲氨基苯乙烯基甲基吡啶盐。
5.如权利要求4所述的耐光超分子有机晶体材料的制备方法,其特征在于,所述的二甲氨基苯乙烯基甲基吡啶盐为DAST、DSTMS、DSNS-1、DSSS、DSNS-2、DSPAS、DSNAS、DSMO、DASC中的任意一种。
6.如权利要求1所述的耐光超分子有机晶体材料的制备方法,其特征在于,所述耐光超分子有机晶体材料的制备方法具体包括:将作为客体分子的有机晶体分子与具有空腔结构的主体分子溶解在溶剂中并搅拌均匀,所述的客体分子和主体分子的摩尔浓度比为1:(0.6~4),然后将混合液滴加到100~180℃的基板上进行蒸发,蒸发时间控制在120~600min,然后将该基板置于培养液的饱和蒸气压下室温培养30~48h,即得耐光超分子有机晶体材料。
7.如权利要求6所述的耐光超分子有机晶体材料的制备方法,其特征在于,所述溶剂包括水、二甲亚砜、N,N-二甲基乙酰胺、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸异丙酯、正乙酸丙酯、乙酸异丁酯、乙酸正丁酯、乙酸甲基戊酯、丙酸正丁酯、乙酸戊酯、异丁酸异丁酯、乙二醇丁醚乙酸酯、甲酸-2-乙基已酯、丙烯腈、氯仿、二氯乙烷、二硫化碳、环己烷、甲苯、二甲苯、吡啶、2-硝基丙烷、炔烃中的任意一种或多种混合。
8.如权利要求1所述的耐光超分子有机晶体材料的制备方法,其特征在于,所述培养液包括水、甲醇、乙醇、氯乙醇、正丙醇、异丙醇、1-丁醇、异丁醇、2-丁醇、戊醇、异戊醇、丙三醇、二丙酮醇、丙酮、丁酮、环已酮、甲基正丙酮、甲基异丁基酮、二异丁基甲酮、甲基异戊基酮、甲醚、乙二醇丙醚、乙二醇丁醚、乙二醇己醚、羟乙基乙醚、二丙二醇甲醚、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丙醚、二乙二醇丁醚、丙二醇单丙基醚、甲酸、乙酸、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸异丙酯、正乙酸丙酯、乙酸异丁酯、乙酸正丁酯、乙酸甲基戊酯、丙酸正丁酯、乙酸戊酯、异丁酸异丁酯、乙二醇丁醚乙酸酯、二乙二醇乙醚乙酸酯、甲酸-2-乙基已酯、丙烯腈、氯仿、二氯乙烷、二硫化碳、环己烷、苯、甲苯、二甲苯、吡啶、2-硝基丙烷、炔烃中的任意一种或多种混合;所述培养液不同于溶剂。
9.权利要求1~8任一项所述方法制备的耐光超分子有机晶体材料。
10.如权利要求9所述的耐光超分子有机晶体材料,其特征在于,所述的耐光超分子有机晶体材料为DAST@β-CDs耐光超分子有机晶体材料。
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