[发明专利]一种硅基对位方法

说明书

本发明公开了一种硅基对位方法，其特征在于，包括如下步骤：在硅基基板上制作对位标记；在掩膜板上开设掩膜板开孔；对位光源由上方照射，进行硅基基板上对位标记与下方掩膜板开孔对应抓取对位。本发明硅基对位方法，结构简单，可大大简化蒸镀结构，可实现精确的硅基对位，具有较好的应用前景。

技术领域

本发明属于OLED微显示技术领域，更具体地说，涉及一种硅基对位方法。

背景技术

与传统的AMOLED显示技术相比，硅基OLED微显示技术将基底与芯片集成一体并且采WOLED+CF模式实现全彩显示，具备超高分辨率、体积小易携带、可制作成媲美大屏显示的近眼显示产品等优点，受到广泛关注。基于其技术优势和广阔的市场，在军事以及消费电子领域，硅基OLED微显示都将掀起近眼显示的新浪潮，为用户带来前所未有的视觉体验。

硅基OLED微显示的衬底材质为单晶硅，而单晶硅为不透明材质，这就使得传统的用于透明玻璃基板蒸镀的对位系统不再适用。目前，硅基OLED 蒸镀所使用的对位机构繁琐复杂，增加设备工作量，且增加了设备采购及保养成本。

发明内容

本发明的目的是解决现有技术存在的问题，提供一种结构简单，适用于硅基OLED微显示蒸镀对位的硅基对位方法。

为了实现上述目的，本发明采取的技术方案为：所提供的这种硅基对位方法，其特征在于，包括如下步骤：在硅基基板上制作对位标记；在掩膜板上开设掩膜板开孔；对位光源由上方照射，进行硅基基板上对位标记与下方掩膜板开孔对应抓取对位。

为使上述技术方案更加详尽和具体，本发明还提供以下更进一步的优选技术方案，以获得满意的实用效果：

在所述硅基基板上设有基板开孔，在所述硅基基板上挖孔时形成十字型预留标记。

所述对位标记包括设于所述硅基基板上的预留标记，在所述预留标记上涂金属镀层形成所述对位标记。

所述金属镀层在金属阳极制作时镀上。

所述掩膜板开孔外边缘尺寸小于硅基基板上基板开孔的外边缘尺寸。

对位时，对位光源由上方穿过硅基基板上的基板开孔，对位标记中心与下方掩膜板开孔重合即完成硅基对位。

本发明与现有技术相比，具有以下优点：本发明硅基对位方法，结构简单，可大大简化蒸镀结构，可实现精确的硅基对位，具有较好的应用前景。

附图说明

下面对本说明书的附图所表达的内容及图中的标记作简要说明：

图1为硅基结构制作示意图；

图2为硅基基板在蒸镀腔室的状态示意图；

图3为对位效果示意图；

附图标记：1、预留标记，2、金属镀层，

4、硅基基板，41、基板开孔，5、掩膜板，51、掩膜板开孔，6、对位光源。

具体实施方式

下面对照附图，通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。

本发明这种硅基对位方法，包括如下步骤：在硅基基板4上制作对位标记；在掩膜板5上开设掩膜板开孔51；对位光源6由上方照射，进行硅基基板4上对位标记与下方掩膜板开孔51对应抓取对位。

本发明中，如图1中所示，在硅基基板4上设有基板开孔41，在硅基基板4上挖孔时形成十字型预留标记1。对位标记包括设于硅基基板4上的预留标记1，在预留标记1上涂金属镀层2形成对位标记。金属镀层2在对位光源6照射时可形成光反射层，便于准确的抓取对位。