[发明专利]双侧存储阵列有效
申请号: | 201911076929.1 | 申请日: | 2019-11-06 |
公开(公告)号: | CN110827900B | 公开(公告)日: | 2021-08-13 |
发明(设计)人: | 唐原;徐仁泰 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G11C16/04 | 分类号: | G11C16/04;G11C16/08;H01L27/115 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 存储 阵列 | ||
本发明公开了一种双侧存储阵列,所述双侧存储阵列包含位于中央的闪存单元阵列,且闪存单元阵列的两个相对侧的每一侧上均连接四个本地X解码器。每一个所述本地X解码器包括八个晶体管。相比现有的本地X解码器,仅仅增加了额外的三个晶体管,就可以避免存储单元在擦除操作过程中被选中的问题,且电路简单,易于实现,而且将八个本地X解码器分布在位于中央的闪存单元阵列的两个相对侧上,使其可以适应现有技术中的八条字线的间距,因此不会显著增加电路占用面积。
技术领域
本发明涉及存储技术,尤其涉及一种双侧存储阵列。
背景技术
存储阵列可包括多个本地X解码器。半导体领域的最新发展增加了本地X解码器中的晶体管数目,但同时需考虑如何使得本地X解码器的输出信号能够避免存储单元在擦除操作过程中被选中。
参考图1A,该图所示为现有本地X解码器。该本地X解码器包括PMOS晶体管P0、NMOS晶体管N1和NMOS晶体管N2。PMOS晶体管P0的栅极接电压信号GWLb,PMOS晶体管P0的源极和衬底N阱接电压信号PWL,PMOS晶体管P0的漏极接NMOS晶体管N1的漏极,NMOS晶体管N1的栅极接电压信号GWLb,NMOS晶体管N1的源极接电压信号SVEEX。对于NOR闪存单元,当本地X解码器检测到擦除模式时,电压信号VEEX为-9伏(V),电压信号SVEEX为0V,电压信号GWLb为0V,电压信号PWL为0V,使得NMOS晶体管N1的栅源电压Vgs=0V小于其阈值电压VT,故NMOS晶体管N1截止,NMOS晶体管N1的漏极电平为VT,此时PMOS晶体管P0因其栅源电压Vgs=0V高于其阈值电压(为负电压)而截止,因此字线WL可连接的最高电压仅为PMOS晶体管P0的阈值电压VT的绝对值。
参考图1B,该图所示为含八个图1A所示本地X解码器的闪存单元阵列。如图所示,所述八个本地X解码器紧密排布于闪存单元阵列的一侧。在图1A所示本地X解码器中,PMOS晶体管P0形成于一N阱中,NMOS晶体管N1和NMOS晶体管N2形成于一三重P阱中,而且当GWLb=0V,PWL=0V,SVEEX=0V,VEEX=-9V,SVPPX=0V时,晶体管P0、N1、N2均截止,字线WL的电压为PMOS晶体管P0的阈值电压VT的绝对值,这意味着字线不能悬空。而当电压信号PWL大于P0栅极上施加的偏压GWLb且栅源压差小于PMOS晶体管P0的阈值电压时,PMOS晶体管P0导通,由此会在PMOS晶体管P0上产生电场。经过多次循环后,PMOS晶体管P0栅极上的电荷将因电场变弱而丢失,从而使得该已编程单元变为已擦除单元,即该存储单元在擦除操作过程中被选中。
一种可能的解决方案是在本地X解码器中增加额外的晶体管和信号,以确保晶体管P0的栅极在擦除模式下具有9V电位,晶体管P0始终保持截止,从而使得相应的存储单元的存储晶体管的栅氧上不存在电场。但是增加额外的晶体管及相应的信号可导致电路面积增大,同时,存储单元阵列的纵向尺寸又存在约2.47nm的限制,这对本地X解码器的布局提出了挑战。
发明内容
本发明的目的在于提供一种双侧存储阵列,能够避免存储单元在擦除操作过程中被选中的问题,同时不会占用太多的电路面积。
为了实现上述目的,本发明提供一种双侧存储阵列,所述双侧存储阵列包含位于中央的闪存单元阵列,所述闪存单元阵列具有相对的两侧,所述两侧中的每一侧连接四个本地X解码器,每个所述本地X解码器包括第一PMOS晶体管、第二PMOS晶体管、第三PMOS晶体管、第一NMOS晶体管、第二NMOS晶体管、第三NMOS晶体管和第四NMOS晶体管;其中,
第一PMOS晶体管的栅极和所述第一NMOS晶体管的栅极均连接至第一电压信号,所述第一PMOS晶体管的漏极和所述第一NMOS晶体管的漏极相互连接并输出节点信号,所述第一PMOS晶体管的源极连接第二电压信号,所述第一NMOS晶体管的源极连接第三电压信号;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉新芯集成电路制造有限公司,未经武汉新芯集成电路制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911076929.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。