[发明专利]行走机构、表面清洁设备及表面清洁设备的行走方法

权利要求书

1.一种行走机构，其特征在于，包括：

基座；

盘刷，可旋转的设于所述基座底部，所述盘刷用于与待清洁表面接触；

施力件，设置在所述盘刷上；

所述盘刷旋转过程中，在所述施力件的作用下，所述盘刷的局部形成施力部，且所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大，其中，所述局部为所述盘刷上与所述基座上一预设位置相对的部分。

2.根据权利要求1所述的行走机构，其特征在于，所述施力件包括多个，在所述盘刷旋转过程中，多个所述施力件能够依次增大所述施力部与所述待清洁表面的接触压力。

3.根据权利要求1所述的行走机构，其特征在于，所述基座朝向所述盘刷的表面上具有一驱动件，在所述盘刷转动到所述施力件位于所述驱动件下方时，所述驱动件能够向所述施力件施加远离所述驱动件的作用力，以使所述施力部与所述待清洁表面的接触压力增大。

4.根据权利要求3所述的行走机构，其特征在于，所述驱动件位于所述基座上、且靠近所述盘刷的一侧边缘处。

5.根据权利要求3所述的行走机构，其特征在于，多个所述施力件以所述旋转轴为中心均匀分散布置。

6.根据权利要求3-5任一项所述的行走机构，其特征在于，所述施力件为形成于所述盘刷上的第一凸起，所述驱动件为形成于所述基座上的第二凸起，在所述盘刷转动过程中，所述第一凸起与所述第二凸起抵顶而使所述施力部与所述待清洁表面之间的接触压力增大。

7.根据权利要求6所述的行走机构，其特征在于，所述第一凸起沿上下方向可浮动地设于所述盘刷中。

8.根据权利要求6所述的行走机构，其特征在于，所述第一凸起与所述第二凸起接触之间为点接触。

9.根据权利要求6所述的行走机构，其特征在于，所述第二凸起为弧形，且所述第二凸起的圆心与所述旋转轴的中心重合。

10.根据权利要求6所述的行走机构，其特征在于，所述第二凸起的凸起高度由中部逐渐向两端降低。

11.根据权利要求3-5任一项所述的行走机构，其特征在于，所述施力件为第一磁性件，所述驱动件为第二磁性件，所述第一磁性件与所述第二磁性件之间的相对状态至少包括相斥状态。

12.根据权利要求11所述的行走机构，其特征在于，所述第一磁性件和/或第二磁性件的磁极可调；

及/或，第一磁性件和/或第二磁性件的磁力可调。

13.根据权利要求11所述的行走机构，其特征在于，所述施力件具有第一工作位置和第二位置，施力件处于第一工作位置时，所述施力件压抵待清洁表面；施力件处于第二工作位置时，所述施力件脱离待清洁表面。

14.根据权利要求11所述的行走机构，其特征在于，所述盘刷上具有多个弹片，每个所述弹片的顶部对应设有一个所述第一磁性件，每个所述弹片的底部用于与待清洁表面接触。

15.根据权利要求2所述的行走机构，其特征在于，所述施力件位于所述盘刷内，多个施力件在所述盘刷内以所述旋转轴为中心均匀分散布置，在所述盘刷内还设有控制装置，所述控制装置与所述施力件连接，以用于控制所述施力件向待清洁表面施加压力。

16.根据权利要求15所述的行走机构，其特征在于，所述施力件包括气囊，所述控制装置用于调节所述气囊内的气压，以调节所述施力部向待清洁表面施加的压力。