[发明专利]超声波指纹模组及其制作方法和电子设备

说明书

本发明公开了一种超声波指纹模组及其制作方法和电子设备，所述超声波指纹模组包括超声波检测层和反射层，所述超声波检测层具有超声波接收面，所述反射层设置于所述超声波检测层远离所述超声波接收面的一面，所述反射层用于对从所述超声波检测层射出的超声波进行反射，所述反射层含有流平剂，所述流平剂用以提高在所述反射层制作过程中的表面流平性，以及提高最终形成的反射层的表面流平性。利用反射层可对从所述超声波检测层射出的超声波朝待检测指纹反射，使得待检测指纹接收到的超声波信号加强，提高了超声波指纹模组朝待检测指纹出射超声波信号强度，提高了指纹识别效率。

技术领域

本发明涉及指纹识别技术领域，尤其涉及一种超声波指纹模组及其制作方法和电子设备。

背景技术

目前超声波指纹模组通过从用户指纹谷区域反射回的超声波信号和从用户指纹脊区域反射回的超声波信号进行比对，来识别用户指纹。然而，在超声波指纹模组容易透过超声波信号的情况下，导致超声波指纹模组获取的超声波信号强度减小，难以区分的谷区域的超声波信号与脊区域的超声波信号差异，降低了指纹识别效率。

发明内容

本申请的目的在于提供一种提高指纹识别效率的超声波指纹模组及其制作方法和电子设备。

本申请提供了一种超声波指纹模组，其中，所述超声波指纹模组包括超声波检测层和反射层，所述超声波检测层具有超声波接收面，所述反射层设置于所述超声波检测层远离所述超声波接收面的一面，所述反射层用于对从所述超声波检测层射出的超声波进行反射，所述反射层含有流平剂，所述流平剂用以提高在所述反射层制作过程中的表面流平性，以及提高最终形成的反射层的表面流平性，通过所述流平剂提高所述反射层的表面流平性，使得所述反射层的表面粗糙度有效降低，保证了所述反射层对超声波信号的均匀反射，使得所述超声波指纹模组的指纹识别效率提高。

其中，所述流平剂在所述反射层的质量占比为0.2％～1.5％，使得所述反射层的表面流平性有效降低。

其中，所述流平剂包括氟碳化合物类流平剂，以保证所述反射层的基材润湿性和防缩孔能力。

其中，所述氟碳化合物类流平剂为氟碳有机改性硅氧烷，进一步保证所述反射层的表面平稳性。

其中，所述流平剂还包括聚醚硅氧烷共聚物，使得所述聚醚硅氧烷共聚物可以与所述氟碳化合物类流平剂良好互补，保证所述反射层流平性较好，表面光滑，所述反射层的粗糙度可以小于0.5Rz\um。

其中，所述氟碳有机改性硅氧烷在所述反射层的质量占比为0.1％～0.75％，所述聚醚硅氧烷共聚物在所述反射层的质量占比为0.1％～0.75％，使得所述反射层的表面粗糙度有效减小，并且所述超声波指纹模组的SNR值和OD值有效增大。

其中，所述氟碳有机改性硅氧烷在所述反射层的质量占比为0.2％～0.6％，以进一步减小所述反射层的表面粗糙度。

其中，所述氟碳有机改性硅氧烷在所述反射层的质量占比为0.5％，进一步减小所述反射层的表面粗糙度，且所述超声波指纹模组的SNR值和OD值进一步增大。

其中，所述聚醚硅氧烷共聚物在所述反射层的质量占比为0.2％～0.6％，以进一步减小所述反射层的表面粗糙度。

其中，所述聚醚硅氧烷共聚物在0.5％，进一步减小所述反射层的表面粗糙度，且所述超声波指纹模组的SNR值和OD值进一步增大。

其中，所述反射层含有碳粉和树脂材料，所述碳粉混入所述树脂材料中分子间的间隙，以降低所述反射层的表面粗糙度，使得所述反射层的表面粗糙度有效减小。

其中，所述超声波检测层包括依次层叠设置的基材层、像素电极层、压电层和导电极，所述反射层设置于所述导电极远离所述压电层的一面，使得所述超声波指纹模组纤薄，方便所述超声波指纹模组应用于电子设备的显示屏中。