[发明专利]一种铁电材料可重构场效应晶体管在审

专利信息
申请号: 201910978165.9 申请日: 2019-10-15
公开(公告)号: CN110707152A 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: 孙子涵;田明;王昌锋;李相龙;孙亚宾;李小进;石艳玲;廖端泉;曹永峰 申请(专利权)人: 华东师范大学;上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L29/775 分类号: H01L29/775;H01L29/78;B82Y10/00
代理公司: 31215 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 代理人: 徐筱梅;张翔
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 沟道 铁电材料层 栅极介电 缓冲层 源极 控制栅极 铁电材料 漏极 场效应晶体管 亚阈值摆幅 电学隔离 极化电荷 极化特性 静态功耗 开启电压 控制能力 栅极电压 沟道处 可重构 漏极端 内边墙 晶体管 减小 外边 隔离 阻挡 扩散
【权利要求书】:

1.一种铁电材料可重构场效应晶体管,其特征在于,该晶体管包括:

沟道(1);

设置在沟道(1)一端的漏极(7)及沟道另一个端的源极(8);

设置在沟道(1)外侧的栅极介电缓冲层(2);

包裹在栅极介电缓冲层(2)外侧的铁电材料层(3);

分别设置在源极(8)和漏极(7)端且铁电材料层(3)外侧的控制栅极(9)以及极性栅极(4);

用于控制栅极(9)、极性栅极(4)和源极(8)、漏极(7)电学隔离的内边墙(5)及外边墙(6);

其中:

所述沟道(1)为硅纳米线、锗纳米线、锗硅纳米线、砷化镓纳米线、氮化镓纳米线、磷化铟纳米线或碳纳米管;

所述栅极介电缓冲层(2)为淀积包裹在沟道(1)外侧的二氧化硅、二氧化铪、氮氧化硅材料或所述材料的组合堆叠;

所述铁电材料层(3)为淀积包裹栅极介电缓冲层(2)的钙钛矿型铁电体、铌酸锂型铁电体、钨青铜型铁电体或铋层状钙钛矿结构铁电体材料;

所述源极(8)和漏极(7)采用的材料为钛硅化物、镍硅化物、钴硅化物、氮化钛和氮化钽中的一种或几种组合;

所述控制栅极(9)和极性栅极(4)采用的材料为淀积在铁电材料层外侧经光刻、刻蚀后形成的铝、铜、银、金、多晶硅、氮化钽或氮化钛;

所述源极(8)、漏极(7)一侧的内边墙(5)材料为二氧化铪、氮化硅、氮氧化硅和碳氮化硅中的一种或几种组合;

所述源极(8)、漏极(7)一侧的外边墙(6)材料为二氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃和空气中的一种或几种组合。

2.根据权利要求1所述铁电材料可重构场效应晶体管,其特征在于,所述介电缓冲层(2)位于沟道(1)与铁电材料层(3)之间,其长度不超过纳米线沟道(1)的长度。

3.根据权利要求1所述铁电材料可重构场效应晶体管,其特征在于,所述钙钛矿型铁电体为BaTiO3;铌酸锂型铁电体为 LiNbO3、LiTaO3或BiFeO3;钨青铜型铁电体为PbTa2O6;铋层状钙钛矿结构铁电体为SrBi2Ta2O9或Bi4Ti3O12

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