[发明专利]一种盐酸特比萘芬杂质及其制备方法、应用

说明书

本发明公开了一种盐酸特比萘芬杂质及其制备方法、应用，所述盐酸特比萘芬杂质为杂质化合物X，其结构式如下：该杂质能够用于盐酸特比萘芬原料药及其制剂中该杂质的定性、定量分析。本发明利用盐酸特比萘芬溶液在254nm光照条件下，定向破坏盐酸特比萘芬获得杂杂质化合物X，操作简单，具有很好的应用价值。

技术领域

本发明涉及药物分析技术领域，具体涉及一种盐酸特比萘芬杂质及其制备方法、应用。

背景技术

盐酸特比萘芬的化学名为：反式-N-(6,6-二甲基-2-庚烯-4-炔基)-N-甲基-1-萘基甲胺盐酸盐，其化学结构式如(I)

所示。

盐酸特比萘芬是一种丙烯胺类抗真菌药，可治疗由毛癣菌、犬小孢子菌和絮状表皮癣菌等引起的皮肤、头发和甲的感染，亦可治疗各种癣病以及由念珠菌引起的皮肤酵母菌感染，和由发霉菌引起的甲癣。

目前，盐酸特比萘芬原料药及其制剂在ChP 2015年版、USP40-NF35版、EP 9.0版及BP2017版中均有收载，各国药典标准采用HPLC法测定盐酸特比萘芬原料药有关物质。盐酸特比萘芬原料药及其制剂中含有的杂质，将影响产品使用的安全性，且作为一种口服的抗菌药物，更应对样品中可能降解的杂质进行彻底研究，严格控制。

发明内容

本发明的目的在于提供一种盐酸特比萘芬的新杂质，该杂质能够用于盐酸特比萘芬原料药及其制剂中该杂质的定性、定量分析。

此外，本发明还提供上述杂质的制备方法、应用。

本发明通过下述技术方案实现：

一种盐酸特比萘芬杂质，该杂质为杂质化合物X，其结构式如下：

在盐酸特比萘芬原料药及其制备的制剂光照降解实验中，申请人发现：

在保留时间约为16.5min左右存在一个含量高于4％的杂质，各国药典均未对该杂质进行专门的论述和限度规定，也未见其它文献报道该杂质的制备与确认。

本发明所述杂质为254nm的紫外光下辐射产生，该杂质为申请人通过实现发现的盐酸特比萘芬新杂质，该杂质能够用于盐酸特比萘芬原料药及其制剂中该杂质的定性、定量分析，进一步提高盐酸特比萘芬原料药及其制剂的安全性。

申请人通过LC/MS图谱、¹H-NMR谱、¹³C-NMR谱、DEPT135谱、HMBC谱和HSQC谱对杂质化合物X进行了化学结构确认，分别如图1-图6所示。

一种盐酸特比萘芬杂质的其制备方法，包括以下步骤：

1)、将盐酸特比萘芬在溶剂中溶解配置成溶液进行密封；

2)、将溶液在波长为254nm的紫外光下辐射产生杂质化合物X；

3)、将溶液取出依次经过反相色谱分离、浓缩、冻干得到杂质化合物X。

本发明利用盐酸特比萘芬溶液在254nm光照条件下，定向破坏盐酸特比萘芬获得杂质化合物X，操作简单，具有很好的应用价值。

进一步地，辐射时间为10-36小时。

申请人通过试验发现：

刚开始辐射时，产生少量杂质化合物X，辐射时间小于10小时，随着辐射时间延长杂质化合物X的含量增长速度缓慢，当超过10小时后，随着辐射时间延长杂质化合物X的含量增长速度迅速，当辐射时间为20-26小时，随着辐射时间延长杂质化合物X的含量增长速度降低，当超过36小时，随着辐射时间延长杂质化合物X的含量增长速度缓慢，。