[发明专利]一种膜厚测量辅助定位装置

权利要求书

1.一种膜厚测量辅助定位装置，包括采集模块、分析处理模块、同步模块，以及强度调节模块、调焦模块、驱动模块和执行机构；所述执行机构包括一个刻印单元，所述刻印单元设置在用来将从挤出机挤出的薄膜原料熔体贴在激冷辊上的主气刀的前方；所述采集模块从测厚仪获取薄膜剖面厚度曲线数据，由分析处理模块进行处理后向强度调节模块、调焦模块并通过同步模块向驱动模块发出指令信息，由所述强度调节模块、调焦模块和驱动模块控制执行机构动作，使刻印单元在由挤出机挤出后冷却成型的铸片的预设位置上刻印出由多个深度不同的矩形刻槽组成的V形或U形缺口印记，且所述印记的中心点与挤出机模头两端部的螺栓中心线沿挤出机模头唇口垂线对齐，分析处理模块还通过对所述曲线的极值点搜索和判断来获得模头螺栓在曲线上的准确定位。

2.根据权利要求1所述的一种膜厚测量辅助定位装置，其特征在于：所述同步模块为驱动模块提供刻印开始的时间信息，使得在测厚仪的一个单程扫描时间内，仅需要刻印一个刻槽群就能使所有的所述矩形刻槽均能被测厚仪检测到。

3.根据权利要求1所述的一种膜厚测量辅助定位装置，其特征在于：所述刻印单元包括两个其刻印头分别与挤出机模头两端部螺栓位置相固定连接的刻印模块，所述刻印模块采用激光刻印模块。

4.根据权利要求1所述的一种膜厚测量辅助定位装置，其特征在于：所述刻印单元包括一个与挤出机模头唇口平行的导轨以及一个刻印模块，所述刻印模块包括一个可沿所述导轨移动的刻印头，所述导轨上有多个与模头螺栓有固定位置关系的停靠点，所述刻印模块采用激光刻印模块。

5.根据权利要求1所述的一种膜厚测量辅助定位装置，其特征在于：所述刻印单元刻印的印记最大深度为所刻印铸片厚度的0.05至0.1倍。

6.根据权利要求1所述的一种膜厚测量辅助定位装置，其特征在于：所述分析处理模块对第Uk个螺栓计算其对应的横轴坐标Xk：

其中，第U1和U2两个螺栓对应的两个定位端点在厚度曲线的横轴坐标分别为X1和X2，Round()为四舍五入取整函数。

7.根据权利要求6所述的一种膜厚测量辅助定位装置，其特征在于：其还设置一个模块，输出所获得的所有模头螺栓在厚度曲线上的横坐标Xk。