[发明专利]用于钛部件的纹理化表面

说明书

本公开涉及用于钛部件的纹理化表面。本申请涉及用于便携式电子设备的外壳。该外壳包括具有纹理化表面的钛基底，该纹理化表面包括彼此通过谷分开的无规分布的峰，其中峰的顶部与谷的底部分开至少最小分隔距离，使得纹理化表面的特征在于具有大于0.3微米的Sq(均方根高度)。

技术领域

所述实施方案整体涉及用于蚀刻钛基底的表面的技术。更具体地讲，所述实施方案涉及用于为钛基底实现糙面表面光洁度的系统和方法。

背景技术

便携式电子设备可包括各种操作部件(例如，显示器、处理器、天线等)。这些便携式电子设备的外壳可由具有高强度和刚度的各种金属(例如，阳极化铝等)形成以保护这些操作部件。另外，优选处理这些外壳以赋予这些外壳有吸引力的表面光洁度。然而，特定类型的金属虽然具有高强度和刚度，但也难以处理以赋予有吸引力的表面光洁度。因此，需要实施用于处理这些特定类型金属的技术。

发明内容

本文描述了整体涉及用于蚀刻钛基底的表面的技术的各种实施方案。更具体地讲，所述实施方案涉及用于为钛基底实现糙面表面光洁度的系统和方法。

根据另一实施方案，描述了一种用于便携式电子设备的外壳。该外壳包括具有纹理化表面的钛基底，该纹理化表面包括彼此通过谷分开的无规分布的峰，其中峰的顶部与谷的底部分开至少最小分隔距离，使得纹理化表面的特征在于具有大于0.3微米的Sq(均方根高度)。

根据另一实施方案，描述了一种用于便携式电子设备的外壳。该外壳包括钛基底，所述钛基底包括外部纹理化表面，该外部纹理化表面具有适于漫反射入射在外部纹理化表面处的可见光的交替的峰和谷，其中峰的顶部与谷的底部分开至少最小深度，使得当可见光入射在外部纹理化表面处时，钛基底被赋予在相对于外部纹理化表面在20度处测量时具有小于2光泽度单位的光泽度值。

根据一些实施方案，描述了一种用于形成用于便携式电子设备的外壳的方法，该外壳包括金属基底。该方法包括：通过将金属基底暴露于电化学氧化工艺来形成覆盖金属基底表面的金属氧化物层，其中金属基底的表面通过电化学氧化工艺被粗糙化以形成具有交替的峰和谷的纹理化表面；以及通过施用剥除溶液去除金属氧化物层，由此显露金属基底的纹理化表面。

根据结合以举例的方式示出所述实施方案的原理的附图而进行的以下详细描述，本发明的其他方面和优点将变得显而易见。

提供本发明内容仅用于概述一些示例性实施方案的目的，以便提供对本文所述主题的一些方面的基本理解。因此，应当理解，上述特征仅为示例，并且不应解释为以任何方式缩窄本文所描述的主题的范围或实质。本文所描述的主题的其他特征、方面和优点将通过以下具体实施方式、附图和权利要求书而变得显而易见。

附图说明

本公开通过下面结合附图的具体描述将更易于理解，其中类似的附图标记表示类似的结构元件。

图1示出了根据一些实施方案的具有可利用本文所述的技术处理的表面的各种设备的透视图。

图2A至图2E示出了根据一些实施方案用于形成金属部件的纹理化表面的方法的剖视图。

图3示出了根据一些实施方案用于形成金属部件的纹理化表面的方法的流程图。

图4A至图4B示出了根据一些实施方案的金属部件的视图的示例性图像。

图5A至图5B示出了根据一些实施方案的金属部件的顶视图和对应的轮廓图的示例性电子显微图像。

图6A至图6D示出了根据一些实施方案的金属部件的视图的示例性图像。

图7A至图7C示出了根据一些实施方案的指示纹理化表面的处理时间和程度之间的关系的金属部件的视图的示例性图像。