[发明专利]用于钛部件的纹理化表面

权利要求书

1.一种用于便携式电子设备的外壳，所述外壳包括：

钛基底，所述钛基底包括纹理化表面，所述纹理化表面具有由谷分开的峰，其中所述纹理化表面具有大于0.3微米的Sq(均方根高度)。

2.根据权利要求1所述的外壳，其中所述峰的顶部与所述谷的底部分开3微米或更大的分隔距离。

3.根据权利要求1所述的外壳，其中所述纹理化表面具有由光泽计在20度处测量时小于1光泽度单位的光泽度值。

4.根据权利要求3所述的外壳，其中所述纹理化表面具有由所述光泽计在60度处测量时小于2光泽度单位的光泽度值。

5.根据权利要求4所述的外壳，其中所述纹理化表面具有由所述光泽计在85度处测量时小于10光泽度单位的光泽度值。

6.根据权利要求1所述的外壳，还包括：

涂层，所述涂层覆盖所述纹理化表面，其中所述涂层包括染料颗粒。

7.根据权利要求1所述的外壳，其中所述纹理化表面具有介于0.2微米至0.5微米之间的Sdq(均方根梯度)。

8.一种用于便携式电子设备的外壳，所述外壳包括：

钛基底，所述钛基底包括纹理化表面，所述纹理化表面具有由谷分开的峰，其中所述峰的顶部与所述谷的底部分开介于3微米至7微米之间，使得所述纹理化表面具有由光泽计在20度处测量时小于2光泽度单位的光泽度值，

其中所述纹理化表面具有大于0.3微米的Sq(均方根高度)。

9.根据权利要求8所述的外壳，其中，使用所述光泽计，所述纹理化表面具有相对于所述纹理化表面在60度处测量时小于5光泽度单位的光泽度值、以及相对于所述纹理化表面在85度处测量时小于10光泽度单位的光泽度值。

10.根据权利要求8所述的外壳，还包括：

物理气相沉积(PVD)涂层，所述物理气相沉积涂层覆盖所述钛基底。

11.根据权利要求8所述的外壳，其中S_q介于0.3微米至1微米之间。

12.根据权利要求8所述的外壳，其中所述纹理化表面具有介于0.1微米至0.5微米之间的S_dq(均方根梯度)。

13.根据权利要求8所述的外壳，其中所述钛基底具有350HV或更高的维氏硬度。

14.一种用于形成用于便携式电子设备的外壳的方法，所述外壳包括金属基底，所述方法包括：

通过将所述金属基底暴露于电化学氧化工艺而形成覆盖所述金属基底的表面的金属氧化物层，其中所述金属基底的所述表面被所述电化学氧化工艺粗糙化，以形成具有交替的峰和谷的纹理化表面；以及

通过施用剥除溶液去除所述金属氧化物层，从而显露所述金属基底的所述纹理化表面，所述纹理化表面具有由光泽计在20度处测量时小于2光泽度单位的光泽度值，

其中所述纹理化表面具有大于0.3微米的Sq(均方根高度)。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，在形成所述金属氧化物层之前，所述方法还包括：

对所述金属基底的所述表面进行纹理化或抛光。

16.根据权利要求14所述的方法，其中所述剥除溶液包括磷酸或硫酸。

17.根据权利要求14所述的方法，其中所述金属基底包括钛、铪、锆、钽或铌中的至少一种。

18.根据权利要求14所述的方法，其中所述金属基底的所述纹理化表面不会通过去除所述金属氧化物层而改变。