[发明专利]一种红外和可见光双波段传感器像元及阵列在审

专利信息
申请号: 201910785407.2 申请日: 2019-08-23
公开(公告)号: CN110571232A 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 阙隆成;张逸;闵道刚;杨凯;吕坚;周云 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;G01J1/42;G01J1/44;G01J5/00;G01J5/20
代理公司: 51220 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 代理人: 李朝虎
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 可见光 传感部 红外传感 硅衬底 基础块 双波段 传感器 像元 俯视 左右对称布置 金属反射层 悬空设置 侧边 齐平 投影 上层 生长
【权利要求书】:

1.一种红外和可见光双波段传感器像元,其特征在于:

包括硅衬底(8)和位于硅衬底(8)上层的金属反射层(5)组成的基础块、从硅衬底(8)上生长的可见光传感部(6)、悬空设置于基础块上方的红外传感部(1);

每一个双波段传感器像元包括2个可见光传感部(6),且2个可见光传感部(6)在俯视方向上关于红外传感部(1)呈左右对称布置,红外传感部(1)在俯视方向的投影介于2个可见光传感部(6)之间,且2个可见光传感部(6)远离红外传感部(1)的一侧边均与基础块对应侧边齐平。

2.根据权利要求1所述的一种红外和可见光双波段传感器像元,其特征在于:

所述红外传感部(1)与基础块之间还设置有桥腿结构;

所述桥腿结构包括:纵向金属桥腿(2)横向金属桥腿(3)和金属桥柱(4);

所述纵向金属桥腿(2)位于红外传感部(1)正下方,纵向金属桥腿(2)的上端与红外传感部(1)连接,纵向金属桥腿(2)的下端垂直与横向金属桥腿(3)一端连接,所述横向金属桥腿(3)与红外传感部(1)平行设置并隐藏于红外传感部(1)之下,横向金属桥腿(3)另一端横向延伸后与竖直的金属桥柱(4)连接;

所述金属桥柱(4)穿过金属反射层(5)安装在硅衬底(8)上,金属桥柱(4)采用导线与读出电路连接。

3.根据权利要求1或2所述的一种红外和可见光双波段传感器像元,其特征在于:所述红外传感部(1)包括从上至下层叠的氮化硅顶层(11)、氧化钒热敏电阻层(12)、氮化硅支撑层(13),其中,氧化钒热敏电阻层(12)两侧设置有氧化钒两端电极(14),所述纵向金属桥腿(2)与氧化钒两端电极(14)导接。

4.根据权利要求2所述的一种红外和可见光双波段传感器像元,其特征在于:所述横向金属桥腿(3)成S形状弯曲结构或矩形波状弯曲结构。

5.根据权利要求2所述的一种红外和可见光双波段传感器像元,其特征在于:所述横向金属桥腿(3)的下侧面距离金属反射层(5)的距离为800nm-1200nm。

6.根据权利要求2所述的一种红外和可见光双波段传感器像元,其特征在于:所述金属桥柱(4)设置在硅衬底(8)的2个对角点上。

7.根据权利要求2所述的一种红外和可见光双波段传感器像元,其特征在于:所述红外传感部(1)为一个倒角的矩形板结构。

8.根据权利要求1所述的一种红外和可见光双波段传感器像元,其特征在于:所述金属反射层(5)两侧设置有金属反射层开口(64),所述可见光传感部(6)设置在金属反射层开口(64)内,所述可见光传感部(6)为在硅衬底(8)上制作的PPD型可见光探测结构;

所述PPD型可见光探测结构包括在硅衬底(8)上掺杂形成的P型掺杂区(62)、在P型掺杂区(62)上掺杂形成的N型掺杂区(61)、在N型掺杂区(61)上重掺杂形成的P+型掺杂区。

9.根据权利要求8所述的一种红外和可见光双波段传感器像元,其特征在于:所述P型掺杂区(62)掺杂浓度为1014cm-3~1016cm-3,N型掺杂区(61)掺杂浓度为1015cm-3~1016cm-3,深度为400~500nm,所述P+型掺杂区重掺杂浓度为1017cm-3~1018cm-3,深度为50~100nm。

10.一种红外和可见光双波段传感器阵列,其特征在于:

包括若干个所述双波段传感器像元,双波段传感器像元呈行列阵列排布,沿行方向排列相邻的所述双波段传感器像元的可见光传感部(6)临接在一起;沿列方向排列相邻的所述双波段传感器像元的红外传感部(1)的横向金属桥腿(3)共用一个金属桥柱(4)临接在一起。

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