[发明专利]一种NAND Flash PHY有效
申请号: | 201910676720.2 | 申请日: | 2019-07-25 |
公开(公告)号: | CN110399319B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 马勇;陈帮红;何觉;杨波;吴楚怀;唐先芝;谷卫青 | 申请(专利权)人: | 尧云科技(西安)有限公司 |
主分类号: | G06F13/16 | 分类号: | G06F13/16 |
代理公司: | 西安亿诺专利代理有限公司 61220 | 代理人: | 贺珊 |
地址: | 710000 陕西省西安市高新区鱼化街*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 nand flash phy | ||
本发明涉及一种NAND Flash PHY,主要作用于Flash的DDR模式,能够显著提高Flash的接口频率。一种NAND Flash PHY,DQ通过DELAY_DQ送至IDDR GRP;DQS通过DELAY_DQS0送至IDDR GRP;使得DQ在经过DELAY_DQ、DQS经过DELAY_DQS0后产生DQS相对于DQ的90°相位延时;IDDR GRP通过DQS捕获到正确的DQ过后,将DQ及生成的wdata送入到ASYNC FIFO中;另一方面,DELAY_DQS0后还设有二级延时单元DELAY_DQS1,经DELAY_DQS1二次延时后送至ASYNC FIFO作为ASYNC FIFO的wrclk;其中,DELAY_DQS0经DELAY_DQS0为DQS_90°,DELAY_DQS1为DQS_(invert(180°)+180°)。本发明解决了ASIC和FPGA上NAND Flash PHY不能通用的问题;2.解决了FPGA上PHY的性能较低的问题,该PHY能够达到较快的运行频率。
技术领域
本发明涉及一种NAND Flash PHY,主要作用于Flash的DDR模式,能够显著提高Flash的接口频率。
背景技术
目前,采用PCIE-NVME作为接口的SSD已经成为一种趋势,对Flash PHY的设计也提出了更高的挑战性。通常Flash接口支持SDR或者DDR模式,并且每一种模式又有不同的timing mode。在高速的Flash接口中,通常采用Flash的DDR模式。然而在高速的DDR模式中,对DQ和DQS的相位调节至关重要,因此,Flash PHY的设计也是存储行业的一项难点。
现有技术存在的技术问题1:目前常见的NAND Flash PHY在FPGA和ASIC上并不一样,通常在做ASIC芯片的时候,由于FPGA上Flash的接口速度远远低于ASIC,导致在FPGA原型验证阶段不能充分的验证逻辑电路的正确性。
现有技术存在的技术问题2:不仅如此,在使用FPGA作为SSD的主控的时候,为了满足所需要的带宽,通常需要并行多个NAND Flash通道,极大的浪费资源和面积。
以上两个问题均是由于Flash的接口速度较低导致,故只要能够提高接口速度,便能有效的解决技术问题1和技术问题2。在常见的ASIC设计中,Flash的PHY都会集成有DLL,但是该类型的DLL基本不能在FPGA上通用。本方案设计的PHY和内部的DLL能够在FPGA和ASIC上都容易实现。在Xilinx的FPGA上,可以利用其内部的IDELAY,ODEIALY,IDDR,ODDR,LUT,DFF等相关资源;在ASIC上,可以利用OR,NOR,NADND,AND等相关门电路。经过实践证明,在Xilinx ZYNQ系列FPGA上,该设计能够实现的频率为200MHz/s,即单通道16bits位宽的Flash接口速度为800MB/s,完全能够满足FPGA产品的速度要求;在ASIC上,可以达到400MHz/s,单通道16bits位宽的Flash接口速度为1.6GB/s,在性能上完全满足常见的PCIE3.0X4接口的SSD控制器。
发明内容
本发明旨在针对上述问题,提出一种能够在ASIC和FPGA通用的NAND Flash PHY。
本发明的技术方案在于:
一种NAND Flash PHY, DQ通过DELAY_DQ送至IDDR GRP; DQS通过DELAY_DQS0送至IDDR GRP;使得DQ在经过DELAY_DQ、DQS经过DELAY_DQS0后产生DQS相对于DQ的90°相位延时;
IDDR GRP通过DQS捕获到正确的DQ过后,将DQ及生成的wdata送入到ASYNC FIFO中;另一方面,DELAY_DQS0后还设有二级延时单元DELAY_DQS1,经DELAY_DQS1二次延时后送至ASYNC FIFO作为ASYNC FIFO的wrclk;其中,DELAY_DQS0经DELAY_DQS0为DQS_90°,DELAY_DQS1为DQS_(invert(180°)+180°)。
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