[发明专利]一种硅基光调制器光路监控结构有效

专利信息
申请号: 201910645398.7 申请日: 2019-07-17
公开(公告)号: CN110361877B 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 梁雪瑞;陈宏刚;胡蕾蕾;张博;胡毅;罗勇;马卫东 申请(专利权)人: 武汉光迅科技股份有限公司
主分类号: G02F1/01 分类号: G02F1/01
代理公司: 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙) 44341 代理人: 何婷
地址: 430074 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 硅基光 调制器 监控 结构
【说明书】:

发明涉及光通信技术领域,尤其是涉及一种硅基光调制器光路监控结构,包括一个或多个光探头,每个光探头后端连接一个监控探测器;所述光路监控结构与光调制器集成,所述光调制器包括合束器,所述一个或多个光探头分别与所述合束器的输出波导耦合;其中,当所述合束器的两端输入光为反相输入时,干涉相消,所述一个或多个光探头接收干涉后的散射光,并探测光功率,所述监控探测器将对应探头探测到的光功率转换成光电流。本发明在不额外增加工艺难度的条件下,利用光探头和监控探测器接收干涉后的散射光来实现光路监控,输出反相时无相位偏移,可克服偏置点锁定偏差的问题,并有效降低分光器带来的传输损耗。

【技术领域】

本发明涉及光通信技术领域,尤其是涉及一种硅基光调制器光路监控结构。

【背景技术】

硅光子技术是基于硅材料,利用现有CMOS工艺进行光器件开发和集成的新一代技术,在光通信、数据中心、超级计算、生物、国防、AR/VR技术、智能汽车与无人机等许多领域将扮演极其关键的角色。当前硅光子技术日渐成熟,其高集成度、小尺寸、低功耗、光电集成等优点备受瞩目,未来硅光子技术将有可能会替代当前的自由空间耦合技术,并且硅光子技术具有解决长远的技术演进(高速率、高集成度)和成本矛盾的能力。

硅光子芯片可以集成高速率调制器、传输波导、耦合器、高速率Ge-Si探测器等,将无源芯片和有源芯片实现了单片集成。但是,硅光产品目前仍有技术瓶颈:1)硅光波导耦合损耗较大;2)硅材料温度敏感,对功率和温控有更高要求;3)硅光需要混合集成激光器,封装良率较低成本优势有限。如何降低硅光芯片的传输损耗,优化发射端出光功率是硅光产业化面临的一个重要的研究课题,通常的方式是增大激光器出光功率来提高发射功率,但是容易引起器件功耗增大、提高芯片工艺难度等问题;另外一个方式是,优化硅光调制器芯片本身的损耗,其损耗主要包括:光耦合损耗、光传输损耗、光电调制吸收损耗。

在光调制器中,光监控端口或MPD的功能主要有两个:①光功率值监控;②光调制器工作点反馈调节与锁定。如图1所示,在常规的硅基单马赫-曾德尔干涉仪(Mach–ZehnderInterferometer,简写为MZI)调制器中,调制器部分主要包括1x2MMI合束器001、硅波导002、热相移器004和有源掺杂区005,光路监控部分主要包括第一监控探测器007。其中,光路监控方式通常有两种:

在图1(a)中,光路监控部分还包括2x2MMI光耦合器003(MMI为多模干涉),主要利用2x2MMI光耦合器003两个输出端反相,在所述2x2MMI光耦合器003干涉相消时,光功率监控值最大;所述2x2MMI光耦合器003干涉相长时,光功率监控值最小。此时,光监控端和光输出端相位差理论上为180°,但在所述2x2MMI光耦合器003的实际加工中,由于工艺误差会不可避免地引起相位偏移,即相位误差,如图2所示,相位误差而且,相位偏移是随机的,无法通过算法补偿来消除,导致利用光监控端来做工作点调节反馈时,不是最佳工作点,会影响强度调制器的误码率(BER)或相位调制器的光信噪比(OSNR)。

在图1(b)中,光路监控部分还包括分光比例为95:5的分光耦合器006,主要利用所述分光耦合器006实现监控分光,其中,光输出端口为95%的比例,光监控端口为5%的比例。此种监控方式在整个O波段或C波段内,其波长相关性大于1dB,光监控端口分光比例由于工艺误差会在4%~6%波动,同时会在单个MZI调制器的光输出端口引入大于0.25dB的额外传输损耗。传输损耗的引入尤其在多级MZI调制器结构中明显,如偏振复用正交相位调制器(DP-IQ)中采用4级MZI结构,若采用95:5的分光耦合器结构将额外增加光输出端口约1dB的额外传输损耗。

鉴于此,克服上述现有技术所存在的缺陷是本技术领域亟待解决的问题。

【发明内容】

本发明需要解决的技术问题是:

在传统的调制器光路监控结构中,通常采用2x2MMI光耦合器或分光耦合器来实现光路监控,输出反相时容易引入相位误差,导致偏置点锁定偏差的问题,还可能会带来额外的传输损耗。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉光迅科技股份有限公司,未经武汉光迅科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910645398.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top