[发明专利]芯片自毁系统以及方法在审

专利信息
申请号: 201910641350.9 申请日: 2019-07-16
公开(公告)号: CN110309679A 公开(公告)日: 2019-10-08
发明(设计)人: 刘建云;陈岚 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G06F21/75 分类号: G06F21/75
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张静
地址: 100029 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 保护芯片 环境参数 自毁条件 自毁 毁坏 芯片 产生控制信号 采集电路 高压信号 升压电路 物理攻击 重要信息 处理器 泄露 采集 驱动
【权利要求书】:

1.一种芯片自毁系统,其特征在于,所述芯片自毁系统包括:

升压电路,所述升压电路与被保护芯片连接;

采集电路,所述采集电路用于检测所述被保护芯片所处环境参数;

处理器,所述处理器用于基于所述环境参数,判断是否满足自毁条件,在满足所述自毁条件时,产生控制信号;

其中,所述控制信号用于驱动所述升压电路为所述被保护芯片提供设定高压信号,以毁坏所述被保护芯片。

2.根据权利要求1所述的芯片自毁系统,其特征在于,所述升压电路包括:第1级二极管-第N级二极管,N为大于1的正整数;

第1级二极管的正极为所述升压电路的输入端,用于输入电源电压;第N级所述二极管的负极为所述升压电路的输出端,用于输出所述高压信号;所述输出端通过并联的输出电容以及负载电阻接地;第i级二极管的负极连接第i+1级二极管的正极,i为不大于N-1的正整数;第i级二极管的负极与第i+1级二极管的正极之间具有第i个公共节点,第i个公共节点通过第i个存储电容接地,且通过第i个控制电容输入所述控制信号;

所述控制信号包括反相的第一控制信号以及第二控制信号;第i个控制电容与第i+1个控制电容中的一者输入所述第一控制信号,另一者输入所述第二控制信号。

3.根据权利要求1所述的芯片自毁系统,其特征在于,所述采集电路包括:

用于采集所述被保护芯片所处环境声音参数的声音传感器;

或,用于采集所述被保护芯片所处环境设定部件带电量参数的验电器;

或,用于采集所述被保护芯片所处环境光信号参数的光传感器。

4.根据权利要求1所述的芯片自毁系统,其特征在于,所述处理器判断是否满足自毁条件的方法包括:将所述环境参数与设定阈值比较,如果所述环境参数超过所述设定阈值,则满足所述自毁条件,反之,则不满足。

5.根据权利要求1所述的芯片自毁系统,其特征在于,所述设定高压信号大于所述被保护芯片的额定工作电压的130%。

6.根据权利要求1-5任一项所述的芯片自毁系统,其特征在于,所述被保护芯片包括存储电路,所述存储电路包括用于存储数据的CMOS;

满足所述自毁条件时,所述升压电路为所述CMOS的MOS管栅极输入所述设定高压信号,以使得所述MOS的栅氧层发生不可恢复击穿。

7.一种芯片自毁方法,其特征在于,所述芯片自毁方法包括:

采集被保护芯片所处环境参数;

基于所述环境参数,判断是否满足自毁条件;

如果是,产生控制信号,通过所述控制信号驱动升压电路为所述被保护芯片提供设定高压信号,以毁坏所述被保护芯片中。

8.根据权利要求7所述的芯片自毁方法,其特征在于,所述升压电路包括:

第1级二极管-第N级二极管,N为大于1的正整数;

第1级二极管的正极为所述升压电路的输入端,用于输入电源电压;第N级所述二极管的负极为所述升压电路的输出端,用于输出所述高压信号;所述输出端通过并联的输出电容以及负载电阻接地;第i级二极管的负极连接第i+1级二极管的正极,i为不大于N-1的正整数;第i级二极管的负极与第i+1级二极管的正极之间具有第i个公共节点,第i个公共节点通过第i个存储电容接地,且通过第i个控制电容输入所述控制信号;

所述控制信号包括反相的第一控制信号以及第二控制信号;第i个控制电容与第i+1个控制电容中的一者输入所述第一控制信号,另一者输入所述第二控制信号。

9.根据权利要求7所述的芯片自毁方法,其特征在于,判断是否满足自毁条件的方法包括:

将所述环境参数与设定阈值比较,如果所述环境参数超过所述设定阈值,则满足所述自毁条件,反之,则不满足。

10.根据权利要求7所述的芯片自毁方法,其特征在于,所述被保护芯片包括存储电路,所述存储电路包括用于存储数据的CMOS;

满足所述自毁条件时,所述升压电路为所述CMOS的MOS管栅极输入所述设定高压信号,以使得所述MOS的栅氧层发生不可恢复击穿。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910641350.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top