[发明专利]显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201910637049.0 申请日: 2019-07-15
公开(公告)号: CN110429111B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 张义波;陈营营;孙晨;莫丹;贾松霖;刘操 申请(专利权)人: 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52
代理公司: 广东君龙律师事务所 44470 代理人: 丁建春
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 显示装置
【说明书】:

本申请提供了一种显示面板和显示装置,其中,显示面板包括:平坦化层;像素定义层,形成在平坦化层上,定义有多个像素区;阳极层及有机层,依次形成在平坦化层上,且位于像素区;阴极层,形成在像素定义层和有机层上;其中,像素定义层和阴极层接触的表面形成有多个凹槽,多个凹槽间隔设置,阴极层与像素定义层共形设置。因而阴极层也具有凹槽结构,对于入社的环境光其到一定的减反射作用,继而减少眩光,提高显示对比度。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

目前外界光线照射在OLED器件的金属电极上时,会产生明显的反射现象,造成人眼视觉上的眩光、色彩饱和度降低,显示对比度降低等问题,而现有OLED器件中为了减少环境光对器件显示造成的影响,通常在OLED器件外层贴附偏光片以减少眩光,提高显示对比度。

传统的偏光片反射率高,当采用涂布方式在屏体上直接制作偏光片的时候,仍存在屏体的反射率高,无法完全满足使用需求问题。

发明内容

本申请提供一种显示面板及显示装置,以解决现有技术中显示面板的反射光所造成的显示对比度较低的问题。

为解决上述技术问题,本申请提供一种显示面板,所述显示面板包括:平坦化层;像素定义层,形成在所述平坦化层上,定义有多个像素区;阳极层及有机层,依次形成在所述平坦化层上,位于所述像素区;阴极层,形成在所述像素定义层和所述有机层上;其中,所述像素定义层与所述阴极层接触的表面形成有多个凹槽,所述多个凹槽间隔设置,所述阴极层与所述像素定义层共形设置。

其中,所述凹槽具有弯曲的内表面;优选地,所述凹槽为半球形凹槽,所述半球形凹槽的直径小于等于5微米。

其中,所述像素定义层的折射率低于所述平坦化层的折射率。

其中,所述阴极层和所述有机层之间形成有纳米颗粒。

其中,所述像素定义层不透光,所述阳极层包括图形化导电层和覆盖所述图形化导电层的平坦导电层。

其中,所述图形化导电层为光栅结构,包括多个光栅单元,不同发光颜色的像素区,光栅单元的宽度不同。

其中,所述像素定义层不透光,所述阳极层在每一所述像素区为等腰三角形,所述等腰三角形的底角为β;所述等腰三角形顶点与对应的所述像素区的顶端边缘的连接面与所述像素定义区的夹角为α;所述α等于所述β。

其中,所述显示面板包括偏光片,形成在阴极层上;所述偏光片远离所述阴极层的表面为非平滑结构。

为解决上述技术问题,本申请提供一种显示装置,显示装置包括上述显示面板。

本申请显示面板包括平坦化层、形成在平坦化层上的像素定义层、阳极层和有机层,阳极层和有机层位于像素定义层所定义的多个像素区中。阴极层则覆盖有机层和像素定义层设置。本申请中像素定义层与阴极层接触的表面形成有多个凹槽,多个凹槽间隔设置,阴极层与像素定义层共形设置。即阴极层也形成有凹槽结构,凹槽结构对于照射到阴极层上的环境光能够起到减少反射,减少眩光,提高显示对比度的作用。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请显示面板第一实施例的结构示意图;

图2是图1所示显示面板第一实施例中光线照射到阴极的走向图;

图3是本申请显示面板第二实施例的结构示意图;

图4是本申请显示面板第三实施例中阳极层的结构示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司,未经昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910637049.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top