[发明专利]基板承载台及蒸镀设备

说明书

本发明公开了一种基板承载台及蒸镀设备，基板承载台包括：基台，包括支撑面，支撑面具有支撑区域和位于支撑区域外周的限位区域，支撑区域用于承载基板；定位组件，定位组件与基台连接并凸出于支撑面，定位组件与基台一并形成限位容纳部，基板能够设置于限位容纳部中，至少部分定位组件在支撑区域上具有第一极限位置，在限位区域具有第二极限位置，至少部分定位组件在第一极限位置及第二极限位置之间变换，以适应基板的尺寸。本发明提供的基板承载台及蒸镀设备能够使基板承载台能够对基板进行准确对位，减少对基板的损伤。

技术领域

本发明涉及显示领域，具体涉及一种基板承载台及蒸镀设备。

背景技术

目前，在蒸镀腔室内进行蒸镀的过程中，机械手将基板传递至基板承载台上，然后通过压合设备将基板平稳的设置在基台上。当机械手将基板传递至基板承载台上时，基板承载台上需要对基板进行准确的定位，以使像素单元等的膜层结构准确的蒸镀在基板上。若机械手传送有偏差或者基板边缘不均一、存在毛刺或者其他凹凸不平的情况，在压合过程中会导致基板出现破角或者裂片的问题，破角或者裂片掉落至蒸镀腔室中时会对腔室氛围造成污染。

因此，需要提供一种新的基板承载台及蒸镀设备。

发明内容

本发明提供一种基板承载台及蒸镀设备，旨在使基板承载台能够对基板进行准确对位，减少对基板的损伤。

一方面，根据本发明实施例提出了一种基板承载台，包括基台，包括支撑面，支撑面具有支撑区域和位于支撑区域外周的限位区域，支撑区域用于承载基板；定位组件，定位组件与基台连接并凸出于支撑面，定位组件与基台一并形成限位容纳部，基板能够设置于限位容纳部中，至少部分定位组件在支撑区域上具有第一极限位置，在限位区域具有第二极限位置，至少部分定位组件在第一极限位置及第二极限位置之间变换，以适应基板的尺寸。

根据本发明实施例的一个方面，定位组件围合形成限位容纳部的侧边界，定位组件在侧边界的周向上间隔分布。

根据本发明实施例的一个方面，基板承载台进一步包括滑动组件，定位组件和基台通过滑动组件彼此滑动连接；可选地，在第一极限位置与第二极限位置的排布方向上，滑动组件包括沿排布方向延伸并彼此滑动连接的滑轨以及滑块，滑轨及滑块在垂直于排布方向上的截面均呈“L”形且彼此相互扣合，滑轨和滑块的其中一者连接于基台，滑轨和滑块的另一者连接于定位组件。

根据本发明实施例的一个方面，基板承载台进一步包括多个驱动件，驱动件包括本体和伸缩杆，本体固定在基台上，伸缩杆与定位组件连接。

根据本发明实施例的一个方面，定位组件设置在支撑面且与基台铰接，基板承载台进一步包括缓冲件，缓冲件设置在基台上，缓冲件与定位组件连接，通过缓冲件使定位组件转动连接在基台上。

根据本发明实施例的一个方面，基台的支撑区域设置有凹槽，凹槽由靠近支撑面起始向背离支撑面方向凹陷预定距离形成，缓冲件设置在凹槽内；可选的，缓冲件的极限压缩尺寸小于或等于预定距离。

根据本发明实施例的一个方面，定位组件包括相互连接的撑托部和定位部，撑托部能够与支撑面接触，定位部与撑托部之间呈预设角度设置。

根据本发明实施例的一个方面，定位组件包括定位块和套设在定位块上的调节件，在定位块的轴向上，调节件的投影环绕定位块的投影设置；可选的，在定位块的轴向上，调节件的外轮廓的投影为圆形。

另一方面，根据本发明实施例提出了一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔室，基板置于蒸镀腔室内进行蒸镀；基板承载台，如上述的基板承载台，基板承载台设置在蒸镀腔室中，对置于蒸镀腔室内的基板进行定位。

根据本发明实施例的另一个方面，定位组件包括定位块和套设在定位块上的调节件，在定位块的轴向上，调节件的投影环绕定位块的投影设置，调节件与基板的膨胀系数相同。