[发明专利]基板承载台及蒸镀设备

权利要求书

1.一种基板承载台，其特征在于，包括：

基台，包括支撑面，所述支撑面具有支撑区域和位于所述支撑区域外周的限位区域，所述支撑区域用于承载基板；

定位组件，所述定位组件与所述基台连接并凸出于所述支撑面，所述定位组件与所述基台一并形成限位容纳部，所述基板能够设置于所述限位容纳部中，至少部分所述定位组件在所述支撑区域上具有第一极限位置，在所述限位区域具有第二极限位置，至少部分所述定位组件在所述第一极限位置及所述第二极限位置之间变换，以适应所述基板的尺寸。

2.根据权利要求1所述的基板承载台，其特征在于，所述定位组件围合形成所述限位容纳部的侧边界，所述定位组件在所述侧边界的周向上间隔分布。

3.根据权利要求1所述的基板承载台，其特征在于，所述基板承载台进一步包括滑动组件，所述定位组件和所述基台通过所述滑动组件彼此滑动连接；

优选地，在所述第一极限位置与所述第二极限位置的排布方向上，所述滑动组件包括沿所述排布方向延伸并彼此滑动连接的滑轨以及滑块，所述滑轨及所述滑块在垂直于所述排布方向上的截面均呈“L”形且彼此相互扣合，所述滑轨和所述滑块的其中一者连接于所述基台，所述滑轨和所述滑块的另一者连接于所述定位组件。

4.根据权利要求1所述的基板承载台，其特征在于，所述基板承载台进一步包括多个驱动件，所述驱动件包括本体和伸缩杆，所述本体固定在所述基台上，所述伸缩杆与所述定位组件连接。

5.根据权利要求1所述的基板承载台，其特征在于，所述定位组件设置在所述支撑面且与所述基台铰接，所述基板承载台进一步包括缓冲件，所述缓冲件设置在所述基台上，所述缓冲件与所述定位组件连接，通过所述缓冲件使所述定位组件转动连接在所述基台上。

6.根据权利要求5所述的基板承载台，其特征在于，所述基台的所述支撑区域设置有凹槽，所述凹槽由靠近所述支撑面起始向背离所述支撑面方向凹陷预定距离形成，所述缓冲件设置在所述凹槽内；

优选地，所述缓冲件的极限压缩尺寸小于或等于所述预定距离。

7.根据权利要求1至6任一项所述的基板承载台，其特征在于，所述定位组件包括相互连接的撑托部和定位部，所述撑托部能够与所述支撑面接触，所述定位部与所述撑托部之间呈预设角度设置。

8.根据权利要求1至6任一项所述的基板承载台，其特征在于，所述定位组件包括定位块和套设在所述定位块上的调节件，在所述定位块的轴向上，所述调节件的投影环绕所述定位块的投影设置；

优选地，在所述定位块的轴向上，所述调节件的外轮廓的投影为圆形。

9.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：

蒸镀腔室，基板置于所述蒸镀腔室内进行蒸镀；

基板承载台，如权利要求1至8所述的基板承载台，所述基板承载台设置在所述蒸镀腔室中，对置于所述蒸镀腔室内的所述基板进行定位。

10.根据权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，所述定位组件包括定位块和套设在所述定位块上的调节件，在所述定位块的轴向上，所述调节件的投影环绕所述定位块的投影设置，所述调节件与所述基板的膨胀系数相同。