[发明专利]一种改善背钻孔披锋及压接孔偏小的PCB制备方法有效

专利信息
申请号: 201910628617.0 申请日: 2019-07-11
公开(公告)号: CN110430677B 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 李永妮;孙保玉;彭卫红;宋建远 申请(专利权)人: 珠海崇达电路技术有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/42;H05K3/46
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 王文伶
地址: 519050 广东省珠海市南水*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 改善 钻孔 压接孔偏小 pcb 制备 方法
【说明书】:

发明涉及印制电路板技术领域,具体为一种改善背钻孔披锋及压接孔偏小的PCB制备方法。本发明通过在全板电镀时一次性电镀至孔铜厚度满足生产设计要求,相应地改变正片工艺流程中的图形电镀流程,在开窗处不镀铜仅镀锡,从而可避免图形电镀时电镀在压接孔(部分第二通孔)上的孔铜过厚,使压接孔孔铜厚度不受图形电镀工序的影响,可以有效预防压接孔因孔铜厚度过厚导致压接孔偏小的隐患;同时,因背钻后进行蚀刻处理,可以除去背钻时在孔口处形成的孔口披锋,因此通过本发明方法可同时改善背钻孔的孔口披锋及改善压接孔偏小的问题。

技术领域

本发明涉及印制电路板技术领域,尤其涉及一种改善背钻孔披锋及压接孔偏小的PCB制备方法。

背景技术

对于设置背钻孔的树脂塞孔印制电路板,树脂孔和通孔(包括用于制作背钻孔和压接孔的通孔)通常在外层钻孔工序中一次性钻出,然后同时电镀,通过正片工艺或负片工艺完成蚀刻及剩余工序。负片工艺的流程通常为:层压→外层钻孔→外层沉铜→全板电镀→树脂塞孔→砂带磨板→外层图形→外层蚀刻→外层AOI→阻焊→字符→表面处理→背钻→成型→电测→FQC→FQA→包装。正片工艺的流程通常为:层压→外层钻孔→外层沉铜→全板电镀→树脂塞孔→砂带磨板→外层图形→图形电镀→背钻→外层蚀刻→外层AOI→阻焊→字符→表面处理→成型→电测→FQC→FQA→包装。但是,按照目前的负片工艺制作流程制作时,背钻工序中孔口会产生披锋,而背钻后的下一步是成型工序,成型工序无法有效去除孔口披锋,所形成的孔口披锋严重影响PCB成品率和性能。虽然采用正片工艺制作流程制作,背钻工序后进行外层蚀刻,可以有效解决孔口披锋问题,但由于生产板上设置的压接孔的孔径通常比树脂孔大,全板电镀时压接孔的孔铜就会相对树脂孔偏厚,而图形电镀会进一步增加压接孔的孔铜厚度,在电镀至树脂孔的孔铜厚度满足要求时,压接孔的孔铜厚度会过厚而导致压接孔偏小缺陷,偏差大于质控要求。

发明内容

本发明针对设置背钻孔的印制电路板,通过现有的正片工艺或负片工艺制作存在孔口披锋或板上压接孔存在偏小缺陷的问题,提供一种可同时改善背钻孔披锋及改善压接孔偏小问题的PCB制备方法。

为实现上述目的,本发明采用以下技术方案。

一种改善背钻孔披锋及压接孔偏小的PCB制备方法,包括以下步骤:

S1、在生产板上钻孔,所钻的孔包括用于树脂塞孔的第一通孔和用于制作压接孔、背钻孔及其他功能孔的第二通孔;

进一步地,所述第二通孔的孔径一般大于第一通孔的孔径。

S2、对生产板进行沉铜和全板电镀处理,全板电镀至第一通孔的孔铜厚度满足生产要求;

S3、对生产板进行树脂塞孔处理,在第一通孔内填塞树脂,然后进行砂带磨板处理;

S4、在生产板上制作外层线路图形,所述外层线路图形在待形成外层线路处及第二通孔处开窗,然后进行图形电镀且仅在开窗处电镀一层锡;

S5、对不需导通功能的线路层的通孔进行背钻加工;

S6、对生产板进行退膜处理以裸露需要蚀刻的铜层,然后进行蚀刻处理以除去不需要的铜层;接着进行退锡处理以除去生产板上的锡层,制得外层线路;

S7、对生产板依次进行阻焊层制作、表面处理和成型工序,制得PCB。

进一步地,所述生产板是由内层芯板和外层铜箔通过半固化片压合为一体的多层生产板。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

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