[发明专利]UV掩膜板及其制作方法

权利要求书

1.一种UV掩膜板，包括：

一基板，所述基板具有多个遮光区域和至少一漏光区域；以及，

一遮光层，所述遮光层设置于所述基板上，并覆盖所述基板的全部遮光区域而暴露所述漏光区域内的所述基板；其中，

所述漏光区域形成一闭合区域，以将所述基板分为多个规则形状或不规则形状的遮光区域。

2.如权利要求1所述的UV掩膜板，其特征在于，所述遮光层的材料为金属遮光材料，所述基板为一透明基板。

3.一种UV掩膜板的制作方法，包括：

提供一基板的步骤，其中，所述基板具有多个遮光区域和至少一漏光区域；

在所述漏光区域上涂布一UV光致剥离胶，经固化后获得一牺牲层的步骤，其中，所述牺牲层与所述漏光区域对应；

形成一遮光层的步骤，其中，所述遮光层设置于所述基板及所述牺牲层上，并覆盖所述基板及所述牺牲层；以及，

去除所述牺牲层的步骤，以在所述漏光区域内暴露所述基板，并保留设置于所述基板的所述多个遮光区域内的所述遮光层。

4.如权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述UV光致剥离胶包含基胶与光敏树脂；其中，所述基胶为线性大分子聚合物，所述光敏树脂在紫外光照射后发生交联以与所述基胶形成半互穿聚合物网络结构。

5.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述基胶与所述光敏树脂的质量比为(15～19)：(1～5)。

6.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述基胶包含热塑性弹性体与增粘树脂；其中，所述热塑性弹性体为苯乙烯、异戊二烯与苯乙烯类的共聚物。

7.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述光敏树脂为环氧丙烯酸树脂、聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂、聚醚丙烯酸树脂、丙烯酸酯树脂中的一种或几种混合；优选地，所述光敏树脂为邻苯二甲酸二烯丙酯树脂。

8.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，在所述漏光区域上形成牺牲层并固化所述牺牲层的步骤中，固化后的牺牲层超出所述基板的表面的高度为2μm～3μm。

9.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，在所述漏光区域上形成牺牲层并固化所述牺牲层的步骤中，所述牺牲层的固化温度为100℃～120℃。

10.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，在所述去除所述牺牲层的步骤中，以UV光照射所述基板背离所述遮光层的表面，以光致剥离所述牺牲层。