[发明专利]一种掩膜版精密再生工艺及其系统

权利要求书

1.一种掩膜版精密再生工艺，该掩膜版用于OLED制作工序中，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：采用有机酸对掩膜版上沉积的金属膜进行超声加热溢流清洗或采用有机碱对掩膜版上沉积的无机金属盐进行超声加热溢流清洗；

步骤2：采用纯水和压缩空气对步骤1处理后的掩膜版进行吹淋；

步骤3：采用纯水对步骤2处理后的掩膜版进行漂洗；

步骤31：采用压缩空气对步骤3处理后的掩膜版进行吹淋；

步骤4：采用易溶于水且易挥发醇对步骤31吹淋后的掩膜版进行漂洗；

步骤5：对步骤4处理后的掩膜版进行干燥。

2.根据权利要求1所述的一种掩膜版精密再生工艺，其特征在于，所述步骤2和步骤3之间还包括步骤21，所述步骤21为：采用有机碱对步骤2处理后的掩膜版进行浸泡，所述步骤21之后还包括步骤22，所述步骤22为：采用纯水和压缩空气对步骤21处理后的掩膜版进行吹淋。

3.根据权利要求2所述的一种掩膜版精密再生工艺，其特征在于，所述步骤21的浸泡过程包括超声加热溢流清洗。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种掩膜版精密再生工艺，其特征在于，所述步骤4的醇为异丙醇。

5.根据权利要求1-3任一项所述的一种掩膜版精密再生工艺，其特征在于，所述步骤1之前还包括：对掩膜版进行异常部位表观检测，所述步骤5之后还包括：对掩膜版进行表观检测和光学检测。

6.掩膜版精密再生系统，其特征在于，用于实施如权利要求1-5任一项所述的掩膜版精密再生工艺，所述系统包括检测组件、药液浸泡装置、吹淋装置、纯水漂洗装置、醇漂洗装置和烘干装置。

7.根据权利要求6所述的掩膜版精密再生系统，其特征在于，所述系统包括依次设置的第一检测组件、药液浸泡槽、第一吹淋装置、第二药液浸泡装置、第二吹淋装置、纯水漂洗装置、第三吹淋装置、醇漂洗装置、第四吹淋装置、烘干装置以及第二检测组件，所述吹淋装置包括空槽和吹淋组件。

8.根据权利要求7所述的掩膜版精密再生系统，其特征在于，所述吹淋组件包括多个喷嘴，所述喷嘴在所述空槽内沿平行于产品方向布置。