[发明专利]溅射装置

权利要求书

1.一种溅射装置，其特征在于，包括：

收纳基片的处理容器；和

缝隙板，其将所述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置所述基片的第二空间，

所述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在所述内侧部件的周围的外侧部件，

所述内侧部件相对于所述外侧部件是可拆装的，通过更换不同的所述内侧部件来改变所述开口部的形状，

所述内侧部件从内侧向外侧去依次具有第1锥形部、内侧厚壁部、薄壁部和外侧厚壁部，由所述内侧厚壁部的外侧面、所述薄壁部的上表面和所述外侧厚壁部的内侧面形成遍及所述内侧部件的整周的第1凹部，

所述外侧部件从内侧向外侧去依次具有凸部、第2锥形部和支承部，所述凸部形成在所述第2锥形部的前端侧，向所述内侧部件的所述第1凹部突出，

在所述凸部与所述第1凹部之间形成有第1间隙，由该第1间隙形成第1迷宫结构，

由所述外侧部件的所述凸部和所述第2锥形部形成第2凹部，所述内侧部件的所述外侧厚壁部向所述第2凹部突出，在所述外侧厚壁部与所述第2凹部之间形成有第2间隙，由该第2间隙形成第2迷宫结构。

2.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于：

所述开口部具有大致矩形形状，该大致矩形形状的长边比成膜时的所述基片的所述长边方向的尺寸大，短边比成膜时的所述基片的所述短边方向的尺寸小。

3.如权利要求1或2所述的溅射装置，其特征在于：

所述靶材相对于所述开口部设置在斜上方。

4.如权利要求3所述的溅射装置，其特征在于：

具有在所述开口部的长边侧支承所述内侧部件的壁部件。

5.如权利要求4所述的溅射装置，其特征在于：

所述内侧部件仅在所述开口部的长边侧固定于所述壁部件。

6.如权利要求1或2所述的溅射装置，其特征在于：

所述第1锥形部的板厚从外周去向中心而变小，所述第1锥形部的中心侧的角被施加了倒角加工。

7.如权利要求1或2所述的溅射装置，其特征在于：

具有从所述内侧部件的内部向所述基片供给气体的第一气体供给部。

8.如权利要求7所述的溅射装置，其特征在于：

所述第一气体供给部具有气体排出孔，所述气体排出孔形成于所述内侧部件中的至少所述开口部的长度方向和宽度方向的一者中的至少任一侧的部分。

9.如权利要求1或2所述的溅射装置，其特征在于：

在所述开口部的长边侧具有壁部件，所述壁部件在其与所述内侧部件之间形成迷宫结构的间隙并支承所述内侧部件，

具有对所述间隙供给气体的第二气体供给部。

10.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于：

具有第三气体供给部，其对在所述内侧部件与所述外侧部件的连接部位形成的所述第1迷宫结构和所述第2迷宫结构的间隙供给气体。