[发明专利]全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910535412.8 申请日: 2019-06-19
公开(公告)号: CN110246960B 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 赵旭鹏;赵建华 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L43/04 分类号: H01L43/04;H01L43/06;H01L43/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 马莉
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 电学 调控 多功能 自旋 轨道 力矩 器件 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件,其中,顺次制作包括:基片、平滑层、垂直易磁化层、重金属层、面内易磁化层和覆盖层;

所述垂直易磁化层的材料为垂直磁各向异性Mn基铁磁金属或亚铁磁金属,包括L10-MnGa、L10-MnAl、D022-Mn3Ga或D022-Mn3Ge中的一种或多种;所述垂直易磁化层的厚度为1~4nm;所述垂直易磁化层的易磁化轴沿面外方向。

2.根据权利要求1所述的一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件,其中,所述重金属的材料为Pt、Ta、W、Pd或其他具有强自旋轨道耦合的重金属材料;所述重金属层的厚度为1-3nm。

3.根据权利要求1所述的一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件,其中,面内易磁化层的材料为Fe、Co、CoFe、Co2MnSi或Co2FeAl,厚度为2-6nm。

4.根据权利要求1至3任一项所述的一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件,其中,所述基片的材料为GaAs、Si、玻璃、MgO、蓝宝石或SiC中的一种或多种;所述平滑层的材料为GaAs、Si、MgO、Cr、InAs、InGaAs、AlGaAs、Al、Ta、CoGa或Pd中的一种或多种;所述覆盖层的材料为Pt、Ta、Al或Pd中的一种或多种,所述覆盖层的厚度为1.5-3nm。

5.一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,包括如下步骤:

取一基片;

在基片上顺次制作垂直易磁化层、重金属层、面内易磁化层和覆盖层,形成磁性多层膜结构;

将磁性多层膜结构置于真空下磁场退火,完成制备;

其中,垂直易磁化层的材料为垂直磁各向异性Mn基铁磁金属或亚铁磁金属,包括L10-MnGa、L10-MnAl、D022-Mn3Ga或D022-Mn3Ge中的一种或多种;垂直易磁化层的厚度为1~4nm;垂直易磁化层的易磁化轴沿面外方向。

6.根据权利要求5所述一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,其中,重金属层为具有强自旋轨道耦合的重金属材料为Pt、Ta、W、Pd或其他具有强自旋轨道耦合的重金属材料;重金属层的厚度为1-3nm。

7.根据权利要求5所述的一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,其中,基片的材料为GaAs、Si、玻璃、MgO、蓝宝石或SiC中的一种或多种。

8.根据权利要求5所述的一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,其中,平滑层的材料为GaAs、Si、MgO、Cr、InAs、InGaAs、AlGaAs、Al、Ta、CoGa或Pd中的一种或多种。

9.根据权利要求5所述一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,其中,面内易磁化层的材料为Fe、Co、CoFe、Co2MnSi或Co2FeAl中的一种或多种;面内易磁化层的厚度为2-6nm。

10.根据权利要求5所述一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,其中,覆盖层的材料为Pt、Ta、Al或Pd;覆盖层的厚度为1.5-3nm。

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