[发明专利]全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件及制备方法有效
申请号: | 201910535412.8 | 申请日: | 2019-06-19 |
公开(公告)号: | CN110246960B | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 赵旭鹏;赵建华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L43/04 | 分类号: | H01L43/04;H01L43/06;H01L43/14 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 马莉 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电学 调控 多功能 自旋 轨道 力矩 器件 制备 方法 | ||
1.一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件,其中,顺次制作包括:基片、平滑层、垂直易磁化层、重金属层、面内易磁化层和覆盖层;
所述垂直易磁化层的材料为垂直磁各向异性Mn基铁磁金属或亚铁磁金属,包括L10-MnGa、L10-MnAl、D022-Mn3Ga或D022-Mn3Ge中的一种或多种;所述垂直易磁化层的厚度为1~4nm;所述垂直易磁化层的易磁化轴沿面外方向。
2.根据权利要求1所述的一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件,其中,所述重金属的材料为Pt、Ta、W、Pd或其他具有强自旋轨道耦合的重金属材料;所述重金属层的厚度为1-3nm。
3.根据权利要求1所述的一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件,其中,面内易磁化层的材料为Fe、Co、CoFe、Co2MnSi或Co2FeAl,厚度为2-6nm。
4.根据权利要求1至3任一项所述的一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件,其中,所述基片的材料为GaAs、Si、玻璃、MgO、蓝宝石或SiC中的一种或多种;所述平滑层的材料为GaAs、Si、MgO、Cr、InAs、InGaAs、AlGaAs、Al、Ta、CoGa或Pd中的一种或多种;所述覆盖层的材料为Pt、Ta、Al或Pd中的一种或多种,所述覆盖层的厚度为1.5-3nm。
5.一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,包括如下步骤:
取一基片;
在基片上顺次制作垂直易磁化层、重金属层、面内易磁化层和覆盖层,形成磁性多层膜结构;
将磁性多层膜结构置于真空下磁场退火,完成制备;
其中,垂直易磁化层的材料为垂直磁各向异性Mn基铁磁金属或亚铁磁金属,包括L10-MnGa、L10-MnAl、D022-Mn3Ga或D022-Mn3Ge中的一种或多种;垂直易磁化层的厚度为1~4nm;垂直易磁化层的易磁化轴沿面外方向。
6.根据权利要求5所述一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,其中,重金属层为具有强自旋轨道耦合的重金属材料为Pt、Ta、W、Pd或其他具有强自旋轨道耦合的重金属材料;重金属层的厚度为1-3nm。
7.根据权利要求5所述的一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,其中,基片的材料为GaAs、Si、玻璃、MgO、蓝宝石或SiC中的一种或多种。
8.根据权利要求5所述的一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,其中,平滑层的材料为GaAs、Si、MgO、Cr、InAs、InGaAs、AlGaAs、Al、Ta、CoGa或Pd中的一种或多种。
9.根据权利要求5所述一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,其中,面内易磁化层的材料为Fe、Co、CoFe、Co2MnSi或Co2FeAl中的一种或多种;面内易磁化层的厚度为2-6nm。
10.根据权利要求5所述一种全电学调控的多功能自旋轨道力矩型器件的制备方法,其中,覆盖层的材料为Pt、Ta、Al或Pd;覆盖层的厚度为1.5-3nm。
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