[发明专利]一种根据规则添加SRAF的方法有效

专利信息
申请号: 201910477251.1 申请日: 2019-06-03
公开(公告)号: CN110187600B 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 高澎铮;韦亚一;张利斌 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G03F1/76 分类号: G03F1/76;G03F1/38;G03F7/20
代理公司: 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 代理人: 王胜利
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 根据 规则 添加 sraf 方法
【权利要求书】:

1.一种根据规则添加SRAF的方法,其特征在于,包括:

获取目标图形,并确定投影区域;所述目标图形包括多个子目标图形;根据所述投影区域选择SRAF规则,并基于所述SRAF规则在所述投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形;

若多个所述第一亚分辨率辅助图形的线宽相同,则对所述第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理,以使得沿与所述子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个所述第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上;其中,所述第一预设距离为15nm;所述冲突清理包括:移动至少一个所述第一亚分辨率辅助图形的位置,以使得沿与所述子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的与子目标图形的延伸方向垂直的方向多个所述第一亚分辨率辅助图形排布至同一竖直线上;

根据所述子目标图形的位置、所述子目标图形的线宽、所述子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的所述第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的所述第二亚分辨率辅助图形与所述第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离,确定生长区域;所述生长区域位于所述子目标图形的两端、且和与其对应的所述子目标图形邻接;所述第二预设距离为40~120nm;所述第三预设距离为15~30nm;

去除所述第一亚分辨率辅助图形中位于所述生长区域的部分;

根据所述子目标图形的位置、以及所述子目标图形的线宽,在所述生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形;每个所述生长区域内设有一个所述第二亚分辨率辅助图形;每个所述第二亚分辨率辅助图形与所述子目标图形的一端对应,所述第二亚分辨率辅助图形和与其对应的所述子目标图形的一端正对设置,且其延伸方向和与其对应的所述子目标图形的一端的线宽方向平行。

2.根据权利要求1所述的根据规则添加SRAF的方法,其特征在于,在形成所述第二亚分辨率辅助图形之后,所述添加SRAF的方法还包括:

对所述第一亚分辨率辅助图形中与所述生长区域邻接的部分进行冲突清理,以去除所述第一亚分辨率辅助图形中与所述生长区域邻接的部分,或者,以将所述第一亚分辨率辅助图形中与所述生长区域邻接的部分放大;

其中,放大后的所述第一亚分辨率辅助图形分别与所述第二亚分辨率辅助图形和其他所述第一亚分辨率辅助图形之间的距离大于或等于所述第三预设距离。

3.根据权利要求1或2所述的根据规则添加SRAF的方法,其特征在于,

沿所述子目标图形的延伸方向,所述生长区域的长度为所述第二预设距离、所述第二亚分辨率辅助图形的线宽、所述第三预设距离之和;

和/或,沿所述与子目标图形的延伸方向垂直的方向所述子目标图形的线宽方向,所述生长区域的宽度为与该生长区域对应的所述第二亚分辨率辅助图形的长度与2倍的所述第三预设距离之和。

4.根据权利要求3所述的根据规则添加SRAF的方法,其特征在于,所述第二亚分辨率辅助图形的长度为与其对应的所述子目标图形的线宽的0.8~2倍。

5.根据权利要求1或2所述的根据规则添加SRAF的方法,其特征在于,所述子目标图形的线宽为32nm、38nm、45nm中的一种;

和/或,所述第一亚分辨率辅助图形的线宽和所述第二亚分辨率辅助图形的线宽为15~30nm。

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