[发明专利]一种防窥模组、显示装置及其防窥角度切换方法有效
申请号: | 201910457275.0 | 申请日: | 2019-05-29 |
公开(公告)号: | CN110133939B | 公开(公告)日: | 2022-09-23 |
发明(设计)人: | 张贺宁;李玉成;李旭;葛世康;潘飞;陈燕武 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/29 | 分类号: | G02F1/29 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模组 显示装置 及其 角度 切换 方法 | ||
1.一种防窥模组,其特征在于,所述防窥模组包括:光栅层,以及设置在所述光栅层一侧的偏转控制层;所述光栅层包括:多个磁致偏转光栅结构,相邻两个所述磁致偏转光栅结构之间具有间隙;所述偏转控制层用于产生磁场控制所述磁致偏转光栅结构发生偏转,以使所述间隙的大小发生变化;
所述光栅层划分成对称中心重合的多个光栅组,每一所述光栅组中,所述磁致偏转光栅结构首尾相邻,在垂直于所述防窥模组所在平面的方向上,每一所述光栅组正投影的形状为环形;
所述偏转控制层包括与所述光栅组一一对应的通电线圈;所述防窥模组还包括与所述通电线圈连接的控制单元。
2.根据权利要求1所述的防窥模组,其特征在于,所述光栅层还包括:相对而置的第一基板以及第二基板,所述第一基板和所述第二基板之间具有与所述磁致偏转光栅结构一一对应的偏转空间,所述磁致偏转光栅结构位于所述偏转空间内;所述偏转空间的高度和宽度均大于所述磁致偏转光栅结构的最大尺寸。
3.根据权利要求1所述的防窥模组,其特征在于,所述磁致偏转光栅结构沿相互交叉的第一方向和第二方向排列。
4.根据权利要求1所述的防窥模组,其特征在于,所述偏转控制层未产生磁场时所述间隙的大小,小于所述偏转控制层产生磁场时所述间隙的大小。
5.根据权利要求1所述的防窥模组,其特征在于,所述磁致偏转光栅结构的材料包括下列之一或其组合:纳米四氧化三铁,铁基硼硅铌铜合金。
6.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括:显示面板,以及位于所述显示面板一侧根据权利要求1~5任一项所述的防窥模组。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置还包括背光模组;所述防窥模组位于所述背光模组与所述显示面板之间,或者,所述显示面板位于所述防窥模组与所述背光模组之间。
8.一种根据权利要求6或7所述的显示装置的防窥角度切换方法,其特征在于,该方法包括:
确定所述防窥角度;所述防窥角度为第一防窥角度或第二防窥角度;
当所述防窥角度为所述第一防窥角度时,控制所述偏转控制层产生使得所述磁致偏转光栅结构发生偏转的电场;
当所述防窥角度为所述第二防窥角度时,控制所述偏转控制层不产生电场。
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