[发明专利]基板处理系统、其控制方法、存储介质和物品的制造方法有效
| 申请号: | 201910445821.9 | 申请日: | 2019-05-27 |
| 公开(公告)号: | CN110544651B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
| 发明(设计)人: | 增田充宏;山本健司 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/66;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人: | 迟军;马丽萍 |
| 地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 处理 系统 控制 方法 存储 介质 物品 制造 | ||
本发明提供一种基板处理系统、其控制方法、存储介质和物品的制造方法。提供了一种具有多个基板处理装置、主机控制装置和管理装置的基板处理系统。管理装置基于从各基板处理装置收集的操作信息确定需要维护处理的基板处理装置,并且将确定结果通知给被确定为需要维护处理的基板处理装置。各基板处理装置在接收到确定结果时向主机控制装置发送用于执行维护处理的信息。主机控制装置监测各基板处理装置的操作状态,并且基于发送了用于执行维护处理的信息的基板处理装置的操作状态,控制对该基板处理装置进行维护处理的定时。
技术领域
本发明涉及一种基板处理系统、基板处理系统的控制方法、计算机可读存储介质和物品的制造方法。
背景技术
在半导体生产线上通常安装有多个基板处理装置,并且需要对各基板处理装置有效地进行维护。
日本特开第2011-54804号公报公开了一种方法,其用于基于从半导体制造装置获得的数据来检测半导体制造装置的问题状态,并且使控制量反映在其问题状态被检测的半导体制造装置的配方(处理条件)中从而使得恢复到正常状态。
作为将装置恢复到正常状态的方法,除了日本特开第2011-54804号公报中的使控制量反映在配方中之外,还可以存在诸如使装置的特性改变的方案。例如,可以执行装置校准、装置的重置、处理序列的改变、装置参数的改变等。然而,这种恢复方法伴随着暂时停止生产。因此,存在这样的可能性,即,如果在装置停止对于生产计划是不可接受时执行这些恢复方法,则计划的生产量将不再是可实现的。另外,当在批量处理期间执行这些恢复方法时,伴随着随处理顺序变化的处理时间变化,可能对产品质量产生影响。
发明内容
例如,本发明提供了一种有利于维持生产率和产品质量的基板处理系统。
本发明在其第一方面提供了一种基板处理系统,其具有可操作以处理基板的多个基板处理装置,可操作以控制所述多个基板处理装置的操作的主机控制装置,以及可操作以管理所述多个基板处理装置中的各基板处理装置的维护的管理装置,管理装置包括:确定单元,其被构造为基于从所述多个基板处理装置中的各基板处理装置收集的操作信息来确定需要维护处理的基板处理装置;和通知单元,其被构造为将确定结果通知给由确定单元确定为需要维护处理的基板处理装置,所述多个基板处理装置中的各基板处理装置包括:发送单元,其被构造为在接收到确定结果时向主机控制装置发送用于执行维护处理的信息,并且主机控制装置包括:控制器,其被构造为监测所述多个基板处理装置中的各基板处理装置的操作状态,并且基于发送了用于执行维护处理的信息的基板处理装置的操作状态,控制对该基板处理装置进行维护处理的定时。
本发明在其第二方面提供了一种基板处理系统,其具有可操作以处理基板的多个基板处理装置,可操作以控制所述多个基板处理装置的操作的主机控制装置,以及可操作以管理所述多个基板处理装置中的各基板处理装置的维护的管理装置,管理装置包括:确定单元,其被构造为基于从所述多个基板处理装置中的各基板处理装置收集的操作信息来确定需要维护处理的基板处理装置;和通知单元,其被构造为向主机控制装置通知用于对由确定单元确定为需要维护处理的基板处理装置执行维护处理的信息,并且主机控制装置包括:控制器,其被构造为监测所述多个基板处理装置中的各基板处理装置的操作状态,并且基于由确定单元确定为需要维护处理的基板处理装置的操作状态,控制对该基板处理装置进行维护处理的定时。
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