[发明专利]用于制作光栅的全息曝光系统及方法

权利要求书

1.一种用于制作光栅的全息曝光系统，其特征在于，包括第一波片、偏振分光镜、第一针孔滤波器、第二波片、反射镜、第二针孔滤波器、准直镜以及基板支架，

所述第一波片用于改变光源发出光束的偏振方向；

所述偏振分光镜用于将光源发出的光束分为第一光束和第二光束，并将所述第一光束传至所述第一针孔滤波器，将所述第二光束传至所述反射镜；

所述第二波片用于更改所述第二光束的偏振方向并使其与所述第一光束的偏振方向一致；

所述反射镜用于将所述第二光束反射至所述第二针孔滤波器；

所述第一针孔滤波器用于对所述第一光束进行滤波扩束，所述第二针孔滤波器用于对所述第二光束进行滤波扩束，所述第一针孔滤波器和所述第二针孔滤波器将滤波扩束后的所述第一光束和所述第二光束同时发送至准直镜的一侧；

所述准直镜位于所述第一针孔滤波器的中心光轴与所述第二针孔滤波器的中心光轴的交汇处；所述准直镜将所述第一光束和第二光束准直，并发送至准直镜的另一侧以形成干涉区，以便在位于所述干涉区中的基板表面形成光栅图案；

所述基板支架用于安装基板并对所述基板的位置进行调节，

其中，所述第一针孔滤波器和所述第二针孔滤波器对称分布于所述准直镜的中心光轴的两侧，所述第一针孔滤波器与所述第二针孔滤波器的像差相互补偿。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一光束与所述第二光束的像差相互补偿至少包括所述第一针孔和第二针孔连线方向上的像散的补偿、垂直于主平面方向上的像散的补偿或沿所述准直镜的中心光轴方向上的离焦像差的补偿。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一针孔滤波器和所述第二针孔滤波器位于所述准直镜的焦平面区域。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述准直镜为普通球面镜或非球面镜。

5.一种用于制作光栅的全息曝光方法，其特征在于，包括：

将光源发出的光束的偏振方向更改；

将所述光源发出的光束分为第一光束和第二光束；

更改所述第二光束的偏振方向并使其与所述第一光束的偏振方向一致；

将所述第一光束滤波扩束，并将所述第二光束滤波扩束；

将滤波扩束后的所述第一光束和所述第二光束进行准直处理；

将准直后的所述第一光束和所述第二光束发送至干涉区，在所述干涉区的基板表面形成光栅图案，

其中，在所述干涉区的基板表面形成光栅图案前，还包括：

调整所述第一光束和/或所述第二光束，使所述第一光束和所述第二光束的像差相互补偿，

所述将滤波扩束后的所述第一光束和所述第二光束进行准直处理，包括：将滤波扩束后的所述第一光束和所述第二光束同时发送至同一个准直镜进行准直处理。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述第一光束与所述第二光束的像差相互补偿至少包括所述第一光束和所述第二光束连线方向上的像散的补偿、垂直于主平面方向上的像散的补偿或沿所述准直镜中心光轴方向上的离焦像差的补偿。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，利用普通球面镜或非球面镜对所述第一光束和所述第二光束进行准直。

8.根据权利要求5至7任一所述的方法，其特征在于，在所述干涉区的基板表面形成光栅图案，还包括：

在所述基板表面形成光刻胶层；

将所述基板置于所述干涉区，在所述干涉区进行曝光；

对曝光后的所述基板进行显影形成光刻胶掩膜。