[发明专利]一种适用于半导体制程废气处理系统

说明书

本发明公开一种适用于半导体制程废气处理系统，涉及废气处理领域，包括前水洗系统、热反应系统、后水洗系统和水循环系统，增加前水洗系统，能够提前处理可溶于水的气体以及去除粉尘物，并采用6路直管进气即降低进气量波动影响又防止堵塞，反应腔体增大并且制程气体是从反应腔体底部进入反应腔，能够提前预热气体，增加气体中水汽含量，使反应更充分，部分水淋采用循环水，进水使用一路新水，并且使用一个水泵进行水系统循环和排污，降低成本，减少耗能，节约水资源；在传输管道上进行气体冷却，防止洗涤器过热；本发明优化了传统废气处理设备，更利于半导体制程废气的处理，且降低成本，减少耗能，提升处理效果，并增大制程气体的处理量。

技术领域

本发明涉及废气处理领域，具体涉及一种适用于半导体制程废气处理系统。

背景技术

半导体制造工艺中需要使用多种特殊的气体、大量的酸、碱等化学品以及 有机溶剂和挥发性液体，工艺气体有硅烷、磷化氢、三氢化砷、氨、三氯化硼、 氯、二氯磺酞、四氯化硅、氢化硫、三氯甲苯、碘化硫；酸性液体有HF、H₂SO₄、 HCL、HNO3；碱性液体有NH₄OH、N_aOH；溶剂有丙酮、二甲苯、IPA、PGMEA、NMP 等。

这些气体和化学品在半导体制造工艺中，如果不通过集中收集并且处理， 将造成严重的问题，将会影响人体的身体健康，造成环境污染。

目前市场上的尾气处理设备往往存在以下问题：进气口和进气管道数量少， 在制程气体的气量波动较大时，容易造成处理不充分；进气管道采用弯管，容易 被粉尘结晶堵塞；反应腔体外面使用隔热锡纸包裹，长期处在高温状态下会发出 刺鼻的气味；采用单个加热棒对反应腔进行加热，容错率低；水路采用新鲜水和 冷却水，管路不仅多而且密集，控制回路也相应复杂，同时需要配合多组水泵， 成本高，耗能大，且用水量大；酸排一次洗涤处对尾气处理使用鲍尔环，采用物 理吸附法，把固体颗粒进行吸附，由于一次洗涤的洗涤塔温度比较高，容易造成 鲍尔环融化。

发明内容

本发明的目的在于提供一种适用于半导体制程废气处理系统，增加前水洗 系统，能够提前处理可溶于水的气体以及去除粉尘物，并采用6路直管进气即降 低进气量波动影响又防止堵塞，反应腔体增大并且制程气体是从反应腔体底部进 入反应腔，能够提前预热气体，增加气体中水汽含量，使反应更充分，部分水淋 采用循环水，进水使用一路新水，并且使用一个水泵进行水系统循环和排污，降 低成本，减少耗能，节约水资源；在传输管道上进行气体冷却，防止洗涤器过热； 本发明优化了传统废气处理设备，更利于半导体制程废气的处理，且降低成本， 减少耗能，提升处理效果，并增大制程气体的处理量。

一种适用于半导体制程废气处理系统，包括前水洗系统、热反应系统、后 水洗系统和水循环系统，所述水循环系统包括水箱、新水进水管道、污水出水管 道、水泵和阻隔板，所述水泵安装于水箱内，所述新水进水管道直接与水箱连通， 所述污水出水管道与水泵连接；

所述前水洗系统包括废气进气管、进气水淋喷头和集气箱，所述废气进气 管通过集气箱与水箱连通，所述进气水淋喷头设在废气进气管内；

所述热反应系统包括热反应箱、加热棒、过程气体烟囱和传输管道，所述 热反应箱内为反应腔和回流腔，所述过程气体烟囱与热反应箱固定连接，且过程 气体烟囱下端与水箱连通，上端开口并位于反应腔内，所述加热棒固定连接在热 反应箱上，所述传输管道固定连接在热反应箱的侧下方，并与反应腔连通，且传 输管道上还设有冷却水淋喷头，所述热反应箱的底部还固定连接有加热箱进水管 道，所述加热箱进水管道的两端分别与水泵和回流腔连通；

所述后水洗系统包括下洗涤器、上洗涤器、下水淋喷头和上水淋喷头，所 述下洗涤器的下端与水箱连通，上端与上洗涤器连通，且下洗涤器还通过传输管 道与热反应箱连通，所述下水淋喷头设在下洗涤器内，所述上水淋喷头设在上洗 涤器内。