[发明专利]一种适用于半导体制程废气处理系统

权利要求书

1.一种适用于半导体制程废气处理系统，其特征在于，包括前水洗系统(1)、热反应系统(2)、后水洗系统(3)和水循环系统(4)，所述水循环系统(4)包括水箱(40)、新水进水管道(41)、污水出水管道(42)、水泵(43)和阻隔板(44)，所述水泵(43)安装于水箱(40)内，所述新水进水管道(41)直接与水箱(40)连通，所述污水出水管道(42)与水泵(43)连接；

所述前水洗系统(1)包括废气进气管(10)、进气水淋喷头(12)和集气箱(13)，所述废气进气管(10)通过集气箱(13)与水箱(40)连通，所述进气水淋喷头(12)设在废气进气管(10)内；

所述热反应系统(2)包括热反应箱(20)、加热棒(21)、过程气体烟囱(22)和传输管道(23)，所述热反应箱(20)内为反应腔(25)和回流腔(26)，所述过程气体烟囱(22)与热反应箱(20)固定连接，且过程气体烟囱(22)下端与水箱(40)连通，上端开口并位于反应腔(25)内，所述加热棒(21)固定连接在热反应箱(20)上，所述传输管道(23)固定连接在热反应箱(20)的侧下方，并与反应腔(25)连通，且传输管道(23)上还设有冷却水淋喷头(24)，所述热反应箱(20)的底部还固定连接有加热箱进水管道(44)，所述加热箱进水管道(44)的两端分别与水泵(43)和回流腔(26)连通；

所述后水洗系统(3)包括下洗涤器(30)、上洗涤器(31)、下水淋喷头(32)和上水淋喷头(33)，所述下洗涤器(30)的下端与水箱(40)连通，上端与上洗涤器(31)连通，且下洗涤器(30)还通过传输管道(23)与热反应箱(20)连通，所述下水淋喷头(32)设在下洗涤器(30)内，所述上水淋喷头(33)设在上洗涤器(31)内。

2.根据权利要求1所述的一种适用于半导体制程废气处理系统，其特征在于：所述废气进气管(10)共设有六根，且每根废气进气管(10)的进气口(100)处都设有一个进气压力检测传感器(11)，且每两根废气进气管(10)共同连接在一个集气箱(13)上。

3.根据权利要求1所述的一种适用于半导体制程废气处理系统，其特征在于：所述加热棒(21)设有六根，且最内侧两根加热棒(21)上设有温度传感器，所述加热棒(21)上固定连接有套筒(210)，且套筒(210)与加热棒(21)之间填充有保温棉(211)。

4.根据权利要求1所述的一种适用于半导体制程废气处理系统，其特征在于：所述进气水淋喷头(12)和冷却水淋喷头(24)与水泵(43)连通，为循环水水淋喷头，所述下水淋喷头(32)和上水淋喷头(33)与新水进水管(41)连通，为新水水淋喷头。

5.根据权利要求1所述的一种适用于半导体制程废气处理系统，其特征在于：所述水箱(40)内还设有下下水位传感器(46)、下水位传感器(47)、上水位传感器(48)和上上水位传感器(49)，且四组传感器通过控制器与新水进水管(41)和污水出水管道(42)上的阀门连接。

6.根据权利要求5所述的一种适用于半导体制程废气处理系统，其特征在于：所述阻隔板(45)的上端与水箱(40)固定连接，阻隔板(45)的下端悬空，与水箱(40)底板之间形成水流通道(450)，所述水流通道(450)的高度与下下水位传感器(46)的安装高度一致。

7.根据权利要求1所述的一种适用于半导体制程废气处理系统，其特征在于：所述过程气体烟囱(22)上设有回流孔(220)，所述回流孔(220)位于回流腔(26)内。