[发明专利]一种高导热低介电常数双马来酰亚胺-三嗪树脂及其制备方法

权利要求书

1.一种高导热低介电常数双马来酰亚胺-三嗪树脂的制备方法，其特征在于：包括以下质量分数的组分

基体树脂100份；

导热填料5～30份；

多面体低聚倍半硅氧烷2～7.5份；

所述导热填料为氮化硼纳米片；所述基体树脂为氰酸酯树脂、双马来酰亚胺及环氧树脂的共聚物；氰酸酯树脂、双马来酰亚胺及环氧树脂三种组分的质量比为100:(30～60):(20～35)；

所述氮化硼纳米片与多面体低聚倍半硅氧烷的质量比为(2:3)～(15:1)；所述氰酸酯树脂为双酚F型氰酸酯树脂；

所述方法包括以下步骤：

S01按比例称取双马来酰亚胺、氰酸酯树脂和环氧树脂，加热融化，并搅拌至均匀透明，获得BT树脂预聚体；

S02将所述BT树脂预聚体升温至110～120℃，加入多面体低聚倍半硅氧烷，并磁力搅拌15min，再加入氮化硼纳米片，磁力搅拌60min，期间均质分散5min，继续升温至125℃，并磁力搅拌60min，然后再升温至140℃，磁力搅拌15min，获得BT树脂/氮化硼纳米片/POSS复合树脂；

S03将所述复合树脂注入模具中，并置于真空烘箱中，于130～150℃下排除气泡，然后转移至鼓风干燥箱中，按照160℃/1h+180℃/1h+200℃/2h+220℃/2h+240℃/2h的程序进行固化处理，并自然冷却至室温，得到BT树脂/氮化硼纳米片/POSS复合材料；

所述氮化硼纳米片为改性氮化硼纳米片，改性方法为：配制GTMAC水溶液，GTMAC水溶液的质量百分比浓度为0.1～1％；将氮化硼纳米片粉末加入到GTMAC溶液中得到混合溶液，室温下搅拌后，再在40～50℃条件下超声分散，然后在50～80℃条件下超声并机械搅拌，所得产物用蒸馏水洗涤至中性，过滤分离后取滤渣并进行真空干燥，获得改性氮化硼纳米片；

所述混合溶液中氮化硼纳米片浓度为10～25g/L。

2.根据权利要求1所述的高导热低介电常数双马来酰亚胺-三嗪树脂的制备方法，其特征在于：所述导热填料为采用2,3环氧丙基三甲基氯化铵改性后的氮化硼纳米片，所述氮化硼纳米片为六方结构的氮化硼纳米片。

3.根据权利要求1所述的高导热低介电常数双马来酰亚胺-三嗪树脂的制备方法，其特征在于：所述的双马来酰亚胺为4,4'二苯甲烷双马来酰亚胺、4,4'-二苯醚双马来酰亚胺中的一种。

4.根据权利要求1所述的高导热低介电常数双马来酰亚胺-三嗪树脂的制备方法，其特征在于：所述的环氧树脂为双酚A型环氧树脂。

5.根据权利要求1所述的高导热低介电常数双马来酰亚胺- 三嗪树脂的制备方法，其特征在于：所述的多面体低聚倍半硅氧烷为氨丙基-七异丁基多面体低聚倍半硅氧烷、八氨丙基多面体低聚倍半硅氧烷及八氨基苯基多面体低聚倍半硅氧烷中的一种。

6.一种高导热低介电常数双马来酰亚胺三嗪树脂，其特征在于，由权利要求1-5任一项所述制备方法制备而成。