[发明专利]具有抗菌抗凝血抗平滑肌增生的心血管医疗器械表面Ti-Cu-N涂层的制备方法在审
| 申请号: | 201910393873.6 | 申请日: | 2019-05-10 |
| 公开(公告)号: | CN110129748A | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
| 发明(设计)人: | 景凤娟;黄斌;邓乔元;任倩;覃利娜;谢东;冷永祥;黄楠 | 申请(专利权)人: | 西南交通大学 |
| 主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/32;A61L27/30;A61L27/54;A61L31/08;A61L31/16 |
| 代理公司: | 成都盈信专利代理事务所(普通合伙) 51245 | 代理人: | 张澎;崔建中 |
| 地址: | 611756 四川省成都市高*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制备 心血管 增生的 医疗器械表面 抗凝血 平滑肌 抗菌 医疗器械 镶嵌靶 人工器官 高聚物 金属阴极靶 磁控溅射 溅射靶材 金属阴极 细菌感染 血栓形成 释放 掺杂量 再狭窄 沉积 弧源 双靶 植入 催化 合金 离子 金属 | ||
1.一种具有抗菌抗凝血抗平滑肌增生的心血管医疗器械表面Ti-Cu-N涂层的制备方法,其特征在于,在真空中形成Cu、Ti、N离子和原子的方法在心血管医疗器械表面制备Ti-Cu-N涂层,涂层中Cu的掺杂量为4-50at%;所述在真空中形成Cu、Ti、N离子和原子的方法包括磁控溅射法和金属阴极弧源沉积法;靶材选择Ti-Cu镶嵌靶、Ti和Cu双靶、Ti-Cu合金靶中的一种。
2.根据权利要求1所述的具有抗菌抗凝血抗平滑肌增生的心血管医疗器械表面Ti-Cu-N涂层的制备方法,其特征在于,采用磁控溅射;包括以下步骤:
A、将心血管植入器械放入磁控溅射设备的真空室中,真空室抽真空至0.5×10-3Pa–2.0×10-3Pa;向真空室内通入氩气直至压力为0.5Pa-2.0Pa,通过辉光放电形成等离子体,对工件以及溅射靶分别进行溅射清洗5-100分钟,然后关闭氩气及电源;
B、在工件上施加-50V偏压,氮气和氩气通入比例为2/60-16/60,气压为0.05-2.0Pa;在靶上接直流电源并打开,调节靶上的功率密度约为0.5-10w/cm2,在心血管植入器械表面制得Cu掺杂量为5-50at%的目标产物Ti-Cu-N涂层。
3.根据权利要求2所述的具有抗菌抗凝血抗平滑肌增生的心血管医疗器械表面Ti-Cu-N涂层的制备方法,其特征在于,所述靶材为Ti-Cu镶嵌靶时,靶中Cu/(Cu+Ti)的面积比为0.5-30%,靶材上功率密度为0.5-4.5w/cm2;
所述靶材为Ti-Cu合金靶时,Ti-Cu合金靶中Cu的含量为0.5-30at%阴极靶功率密度为1.2-10w/cm2;
所述溅射靶材为Ti和Cu双靶时,分别在Ti靶和Cu靶上加高功率和直流溅射电源;Ti靶的功率密度为4.0-10w/cm2;Cu靶的平均功率密度为0.5-6w/cm2。
4.根据权利要求1所述的具有抗菌抗凝血抗平滑肌增生的心血管医疗器械表面Ti-Cu-N涂层的制备方法,其特征在于,采用阴极弧源时,制备过程分为两步进行以获得Cu的掺杂量为15at%的Ti-Cu-N涂层:
A、真空室抽真空至2×10-3Pa;向真空室内通入氩气直至压力2.0Pa,施加-1000V的直流电压,辉光放电形成等离子体,对心血管植入器械进行溅射清洗10-100分钟,然后关闭直流电源;调节氩气压力为0.5Pa,在溅射靶Cu靶和Ti靶上分别加直流溅射电源,溅射电流3A,形成辉光放电后产生等离子体,清洗靶材5-30分钟,然后关闭氩气及电源;
B、在工件上施加-50V的偏压,通入氩气和氮气,调节氮气和氩气比例为10/60;采用阴极弧源沉积方法制备Ti-Cu-N涂层,阴极靶采用Ti-Cu镶嵌靶,靶中Cu/(Cu+Ti)的面积比例为10%;Ti-Cu镶嵌靶接直流电源,其功率密度约为4w/cm2。
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