[发明专利]适于作为迹线电极的合金与使用该合金的触控面板

说明书

本发明以一第一夹层、一铜金属层与一第二夹层组成一新颖合金。特别地，使用本发明的合金作为纳米银触控面板的复数第一外延电极与复数第二外延电极(亦即，迹线电极)之后，便能够有效地降低或阻止羽毛状微结构在迹线电极与/或(触控)感测电极单元的蚀刻过程中生成。另一方面，由于本发明的合金可完全抵挡制造中用以形成图案化纳米银线电极的蚀刻液的攻击，因此，利用蚀刻制造完成图案化纳米银线电极的制作后，不会有第一夹层、铜金属层与第二夹层被蚀刻液攻击的现象。显然地，在使用此新颖合金作为其迹线电极的纳米银线触控面板的情况下，触控面板的制造合格率与可靠度随着蚀刻制造的操作范围的扩增而显著提升。

技术领域

本发明涉及触控面板技术领域，尤其是一种适于作为迹线电极的合金与使用该合金的一种触控面板。

背景技术

目前，由透明导电基板搭配控制与感测电路所制成的触控面板已被大量地应用于智能型手机、平板计算机等屏幕尺寸较小的电子装置上。然而，随着一体机电脑、大尺寸笔记本电脑与大型触控屏幕的市场需求的逐渐增加，大尺寸透明导电基板的制造价格以及氧化铟锡电极层的电阻值便逐渐成为大尺寸触控面板的主要问题来源。如长期涉及透明导电基板制造的工程师所熟知的，氧化铟锡电极层的制造成本约占整个透明导电基板的40％左右，同时氧化铟锡电极层的片电阻值约为100-150ohm/sq。

ITO触控面板可分为单面ITO与双面ITO型式。图1显示熟知的一种双面ITO式触控面板的上视图。并且，图2显示熟知的双面ITO式触控面板的剖视图。如图所示，现有的双面ITO式触控面板5下文简称“触控面板5”结构上包括：一透明基板6、形成在所述透明基板6表面的复数第一感测金属单元7、形成在所述透明基板6底面的复数第二感测金属单元8、复数第一外延电极9以及复数第二外延电极10。如图1中的虚线方框所示，所述复数第一感测金属单元7与所述复数第二感测金属单元8通常位于触控面板5一可视区13内。另一方面，图1中的实线方框与虚线方框被定义为不可视区14，用以将所述复数第一外延电极9与所述复数第二外延电极10规划设置在其中。

所述第一外延电极9与所述第二外延电极10被称为迹线，通常以银或铜为其制造材料。然而，考虑到触控面板5整体成本与售价之间的平衡，制造商通常选用铜做为迹层线路的制造材料。值得特别说明的是，铟资源的逐年减少导致的铟材料的取得逐年提高。因此，为了降低原料成本，透明导电基板或触控面板的制造商选用优越的导电性的纳米银线取代ITO作为所述复数第一感测金属单元7与所述复数第二感测金属单元8的制造材料。同时，由纳米银线制成的所述第一感测金属单元7与第二感测金属单元8，其片电阻值约为30-50ohm/sq。

图3A与图3B是显示以纳米银线作为复数第一感测金属单元与复数第一外延电极的制造流程示意图。如图3所示，制造流程首先执行步骤S1:在一透明基板6上依序形成一纳米银线层15铜金属层16。进一步地，在步骤S2与步骤S3中，图案化的一所述第一光阻层17形成在所述铜金属层16上，且一第一蚀刻处理被用以蚀刻去除未覆有所述第一光阻层17的所述纳米银线层15与所述铜金属层16。值得注意的是，完成第一蚀刻处理之后，所述复数第一感测金属单元7即形成在所述透明基板6的表面上。进一步地，在步骤S4与步骤S5之中，图案化的一所述第二光阻层18已经完成第一蚀刻处理的所述铜金属层16与所述复数第一感测金属单元7上，且一第二蚀刻处理被用以蚀刻去除未覆有所述第二光阻层18述铜金属层16。值得注意的是，完成第二蚀刻处理之后，所述复数第一外延电极9即形成在所述透明基板6的表面上，并对应连接所述复数第一感测金属单元7。可想而知，所述复数第二感测金属单元8与所述复数第二外延电极10可以依照步骤S1至步骤S5的制造被形成在所述透明基板6的底面上。