[发明专利]一种用于UV膜的可快速失去粘性的UV胶配方、UV膜

说明书

本发明公开了一种用于UV膜的可快速失去粘性的UV胶配方，其特征在于，按重量计，包括如下组分：内聚丙烯酸，100克；固化剂，3克；光感剂，5克；脱落剂，5克。将根据本配方制备的UV胶涂覆到基膜上，可以制备出UV膜，晶片可以粘附在UV胶上，当紫外光不进行照射时，晶片紧密的黏附在UV胶上，当紫外光照射时，UV胶就快速的失去粘性，晶片就可以快速的从晶片上被取下。

技术领域

本发明涉及UV胶技术领域，尤其涉及一种用于UV膜的可快速失去粘性的UV胶配方，该UV胶在特定波长的紫外光的照射下会快速的失去粘性，还涉及一种UV膜，该UV膜上涂覆有上述的UV胶。

背景技术

在对小尺寸、小间距密集排布的晶片(尤其是芯片)进行操作时，如对晶片进行转移、挑选等操作。首先需要将晶片固定在平面状的基膜上；然后还需要能快速的、准确的将晶片从基膜上取下来，且取晶片的操作对其它未取下晶片的影响应当尽可能的小。申请人在之前申请的专利中提到了使用UV胶对晶片进行固定的方法，将UV胶创造性的应用于固晶领域，对于快速的转移小尺寸、小间距密集排布的晶片是非常便利的。

虽然UV胶是一种较为常见的产品，但是由于UV胶在晶片的处理、加工领域，尤其是固晶领域，属于首次的应用。现有的UV胶虽然也能满足基本的需要，但是还存在缺陷，该缺陷是与本发明的特定的场景下才凸显出来的：由于微小尺寸的晶片在基膜上非常密集的排布，当将基膜上的特定的晶片进行剔除时，就需要UV胶在紫外光的照射下能更快速的失去粘性，UV胶失去粘性的速度就制约了生产的效率，而现有的UV胶在紫外照射失去粘性的速度方面还不足够，这就使现有的UV胶还存在较大的改进空间。而本发明是针对这一缺陷进行解决的。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术之不足而提供一种用于UV膜的可快速失去粘性的UV胶配方，将根据本配方制备的UV胶涂覆到基膜上，可以制备出UV膜，晶片可以粘附在UV胶上，当紫外光不进行照射时，晶片紧密的黏附在UV胶上，当紫外光照射时，UV胶就快速的失去粘性，晶片就可以快速的从晶片上被取下。

为实现上述目的，本发明提供的一种用于UV膜的可快速失去粘性的UV胶配方，按重量计，包括如下组分：内聚丙烯酸，100克；固化剂，3克；光感剂，5克；脱落剂，5克。

优选的，所述固化剂是异氰酸酯固化剂、潮固化树脂中的一种或者两种混合。

优选的，所述光感剂是光引发剂1173、光起始剂184、紫外线吸收剂BP、TPO、光引发剂783、有机胺中的一种或者多种。

优选的，所述脱落剂是有机硅及衍生物和\或有机蜡。

优选的，所述内聚丙烯酸由丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、有机无机杂化树脂、橡胶、增粘树脂、橡胶改性丙烯酸酯、丙烯酸单体中的一种或多种混合物代替。

本发明还提供一种UV膜，所述UV膜由上述的用于UV膜的可快速失去粘性的UV胶配方制成。

优选的，所述UV膜包括透明的基膜、UV胶层、离型膜，所述UV膜的总厚度为30毫米～100毫米；其中，所述UV胶层由用于UV膜的可快速失去粘性的UV胶配方制成。通过在基膜上涂覆UV胶，而形成UV胶层，在UV胶层上阵列式的排布小尺寸的晶片，当晶片排布后，再覆盖一层离型膜。

本发明的有益效果是：通过本发明的UV胶配方制备得到的UV胶，其在紫外光(波长220nm～400nm)的照射下可以快速的失去粘性，失去粘性的速度要显著的快于市面上的普通的UV胶。本发明的UV胶是其在晶片加工处理领域所做的改良，其更加快速的失粘特性使其有助于提升处理晶片的速度，这对于提升产能、降低成本非常有帮助。本申请中的脱落剂，便于晶片快速从UV胶层上脱落，这进一步增强了晶片从脱离的时间，缩短了从基膜上剔除特定晶片的时间间隔。

附图说明

图1是本发明一实施例的整体结构示意图；