[发明专利]一种石英舟清洗后的处理方法在审
申请号: | 201910348035.7 | 申请日: | 2019-04-28 |
公开(公告)号: | CN110061099A | 公开(公告)日: | 2019-07-26 |
发明(设计)人: | 吴永秋 | 申请(专利权)人: | 江苏格林保尔光伏有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 | 代理人: | 谢新萍 |
地址: | 213000 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石英舟 清洗 太阳能电池板 扩散 饱和处理 周期延长 产能 方阻 生产成本 制造 | ||
本发明涉及太阳能电池板制造技术领域,具体涉及一种石英舟清洗后的处理方法。不使用O2和POCL3对清洗后的石英舟进行处理,节省了扩散生产成本;大幅度减少了对石英舟的处理时间,从而提升产能;此方法处理后的石英舟在扩散过程中,无外观不良,舟印情况,方阻正常;较之前使用POCL3饱和处理的周期延长5‑10天。
技术领域
本发明涉及太阳能电池板制造技术领域,具体涉及一种晶体硅太阳电池生产中扩散工序的石英舟清洗后的处理方法。
背景技术
经过扩散工序的石英舟在使用一段时间后,卡槽位置容易出现脏污,导致生产过程中出现舟印外观不良情况,因此需要对石英舟进行定期清洗,清洗后再对石英舟进行饱和处理,不会出现对硅片有舟印外观异常和方阻异常。
现有技术中对石英舟清洗后通常使用O2和POCL3对其进行饱和处理,在石英舟表面充分吸收磷原子,对石英舟进行饱和,但是,使用O2和POCL3在饱和过程中会产生P2O5,P2O5容易残留至石英舟卡槽的死角,当石英舟与空气中的水分接触生成HPO3,在正常使用过程中就容易产生舟印,导致外观不良;且使用O2和POCL3,饱和时间长,影响产能;因此需要对石英舟清洗后的处理方法进行优化,达到降低生产成本及提高产能的目的。
本领域公知常识认为不使用O2和POCL3对石英舟进行饱和处理,容易导致处理后的硅片在扩散后方阻偏高,且均匀性差,对外观存在影响。
发明内容
为了解决现有技术中对石英舟清洗后使用O2和POCL3对石英舟进行饱和处理存在的技术问题,本发明提供了一种不使用O2和POCL3对石英舟进行饱和处理的处理方法,以解决上述背景技术中存在的问题。本发明对石英舟清洗后的处理方法具有减少饱和时间,节约气体和节省POCL3用量的特点。
为实现上述目的,本发明提供的技术方案如下:
一种石英舟清洗后的处理方法,包括以下步骤:
1)在石英舟清洗机中加入体积比为4:1:30的HF、HCL和水的混合物;
2)将石英舟放入石英舟清洗机通入氮气进行鼓泡清洗6h,鼓泡清洗可以有效去除扩散过程中形成的石英舟卡槽死角的HPO3;
3)用氮气吹扫石英舟整体以及卡槽位置,直至没有明显水渍在石英舟上;
4)将吹干后的石英舟放入炉管中通过流量稳定的10000-30000SCCM的N2,温度稳定至800-950℃,运行10-30min。
使用大流量的氮气,可以去除石英舟卡槽死角位置的水分,防止在正常生产过程中,与P2O5反应生产HPO3导致舟印外观不良。
作为优选,步骤4)将吹干后的石英舟放入炉管中通过流量稳定的25000SCCM的N2,温度稳定至900℃,运行20min。
与现有技术相比,本发明具有以下显著有益效果:
本发明方法不使用O2和POCL3对清洗后的石英舟进行饱和处理,节省了扩散生产成本;且大幅度减少了对石英舟处理时间,从而提升产能;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的