[发明专利]一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺

说明书

本发明公开了一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺，配方包括：石英玻璃基片、金属铟、碳酸铵、硫酸锡、硝酸、氯化锡、酒精、氨水、催化剂、添加剂，各组分的质量百分含量分别是：15‑25%的石英玻璃基片、20‑30%的金属铟、15‑25%的碳酸铵、10‑20%的硫酸锡、2‑4%的硝酸、10‑20%的氯化锡、1‑3%的酒精、5‑10%的氨水、0.5‑1%的催化剂和0.5‑1%的添加剂，制备工艺包括以下步骤，步骤一，原料选取；步骤二，溶液混合；步骤三，共沉淀加工；步骤四，处理筛分；步骤五，提拉镀层；步骤六，高热处理；步骤七，包装存储；该发明，采用共沉淀加工与超声反应制作ITO溶胶，使石英玻璃基片与ITO溶胶融合更加紧密，增加该电容屏贴膜导电性，提升该电容屏贴膜灵敏度。

技术领域

本发明涉及电容屏技术领域，具体为一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺。

背景技术

电容屏即电容式触摸屏技术是利用人体的电流感应进行工作的，电容式触摸屏是一块四层复合玻璃屏，当手指触摸在金属层上时，由于人体电场，用户和触摸屏表面形成以一个耦合电容，控制器通过对这电流比例的精确计算，得出触摸点的位置；传统电容屏在使用时需要贴膜使用，贴膜后由于膜的厚度与材料，造成用户使用时触摸灵敏度低下，不利于用户使用，同时由于用户玩手机游戏时喜欢使用物理按键外挂，物理按键外挂导电性能差，更加降低使用时的灵敏度；针对这些缺陷，设计一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺是很有必要的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜及加工工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜，配方包括：石英玻璃基片、金属铟、碳酸铵、硫酸锡、硝酸、氯化锡、酒精、氨水、催化剂、添加剂，各组分的质量百分含量分别是：15-25%的石英玻璃基片、20-30%的金属铟、15-25%的碳酸铵、10-20%的硫酸锡、2-4%的硝酸、10-20%的氯化锡、1-3%的酒精、5-10%的氨水、0.5-1%的催化剂和0.5-1%的添加剂。

一种对电容屏灵敏度干扰度低的贴膜的加工工艺，包括以下步骤，步骤一，原料选取；步骤二，溶液混合；步骤三，共沉淀加工；步骤四，处理筛分；步骤五，提拉镀层；步骤六，高热处理；步骤七，包装存储；

其中上述步骤一中，按照各组分的质量百分含量分别是：15-25%的石英玻璃基片、20-30%的金属铟、15-25%的碳酸铵、10-20%的硫酸锡、2-4%的硝酸、10-20%的氯化锡、1-3%的酒精、5-10%的氨水、0.5-1%的催化剂和0.5-1%的添加剂进行选取，并按照重量百分比之和为1进行称取；

其中上述步骤二中，溶液混合包括以下步骤：

1）将反应釜进行清洗后加入硝酸，保持常温；

2）将金属铟投入到反应釜中，边投入边搅拌均匀；

3）保持料温，加入添加剂，调整pH值至中性，持续搅拌反应1-2h；

其中上述步骤三中，将上述步骤二中所得混合物加入氯化锡，混合搅拌后滴加氨水，高温反应，终点pH为8，停止滴加氨水，搅拌2-3h，进行共沉淀；

其中上述步骤四中，处理筛分包括以下步骤：

1）将反应釜加热至30-50℃，兑入酒精，加入步骤三中混合物；

2）再向反应釜中加入硫酸锡与碳酸铵，加入催化剂，强烈搅拌，得到ITO复合粉颗粒；

3）将ITO复合粉颗粒洗涤、烘干，然后进行筛分，得到超细的ITO复合粉颗粒粉末；

4）将ITO复合粉颗粒超细粉末溶与酒精，在使用超声仪器混合，得到溶胶；