[发明专利]一种均匀对称布置且同步开合的离子源挡板

权利要求书

1.一种均匀对称布置且同步开合的离子源挡板，其特征在于：离子源挡板设置在位于离子源与晶圆之间的刻蚀反应腔体内，用于阻挡离子源射向晶圆的离子束；离子源挡板的中心点与晶圆中心点和离子源中心点位于同一水平直线上；

离子源挡板包括n块n等分挡板，n≥2；n块n等分挡板大小形状相同，均位于同一个竖向平面内，且以离子源挡板中心点为对称中心，呈均匀对称分布；

n块n等分挡板均能在对应驱动机构的作用下，以离子源挡板中心点为圆心，沿径向进行同步往返滑移；n块n等分挡板在沿径向同步往返滑移的同时，晶圆也能沿自身轴线旋转；

当n块n等分挡板向着离子源挡板中心点滑移并拼合后，能将离子源栅网进行完全遮挡；当n块n等分挡板向着背离离子源挡板中心点滑移时，能使离子源栅网无遮挡。

2.根据权利要求1所述的均匀对称布置且同步开合的离子源挡板，其特征在于：每个n等分挡板均具有挡板连杆、铰接滑块、连杆机构、驱动机构和滑轨；挡板连杆一端与n等分挡板相连接，另一端通过铰接滑块与连杆机构相铰接，连杆机构另一端与驱动机构相铰接，铰接滑块能沿滑轨进行往返滑移。

3.根据权利要求2所述的均匀对称布置且同步开合的离子源挡板，其特征在于：离子源挡板包括两块二等分挡板，分别为左二等分挡板和右二等分挡板，左二等分挡板具有左挡板连杆、左铰接滑块、左连杆机构、左驱动机构和左滑轨；右二等分挡板具有右挡板连杆、右铰接滑块、右连杆机构、右驱动机构和右滑轨；左滑轨和右滑轨位于同一直线，且呈水平状态。

4.根据权利要求2所述的均匀对称布置且同步开合的离子源挡板，其特征在于：离子源挡板包括四块四等分挡板，每块四等分挡块所对应的滑轨与竖直方向夹角呈45°或135°。