[发明专利]Psymberin的制备方法

权利要求书

1.一种psymberin的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

将化合物26与化合物27进行Diels-Alder/芳构化反应得到化合物28；将所述化合物28的酚羟基进行保护，然后在芳基上引入溴原子到化合物30；将所述化合物30与锂卤交换，然后与MeI发生烷基化得到化合物31；将所述化合物31脱除TES保护且实现内酯化，然后将裸露的羟基再用TES保护得到化合物32；

将所述化合物32脱除PMB保护基，然后将得到的羟基氧化为酸得到化合物33；将所述化合物33转化为一级酰胺化合物34；将所述酰胺化合物34中的MOM保护基和TES保护基脱除，并用乙酰基保护羟基得到化合物3；

将化合物2进行衍生化得到酰氯化合物14；

将化合物3与酰氯化合物14进行连接，然后脱除保护基，得到化合物1，所述化合物1为psymberin；

其中，上述化合物的结构式如下：

2.如权利要求1所述的psymberin的制备方法，其特征在于，所述化合物2的制备方法包括如下步骤：

将化合物10与化合物9进行加成反应得到化合物11；

将化合物11引入甲基后脱除缩酮保护，再进行羟基保护得到化合物13；

将化合物13经过Dess-Martin氧化反应和Pinnick氧化反应得到化合物2；

其中，上述化合物的结构式如下：

3.如权利要求2所述的psymberin的制备方法，其特征在于，所述化合物10与化合物9进行立体选择性加成反应得到化合物11；和/或，

所述化合物11在NaH和MeI的条件下引入甲基。

4.如权利要求2所述的psymberin的制备方法，其特征在于，将化合物11引入甲基后脱除缩酮保护后，再进行羟基保护的步骤包括：先将一级羟基用TBS保护，然后将二级羟基用Bz保护，最后脱除TBS保护。

5.如权利要求1所述的psymberin的制备方法，其特征在于，所述化合物32在Pd(OH)₂/C和H₂的条件下脱除PMB保护基；和/或，

在AZADO、NaClO₂和AcOH/NaOAc缓冲溶液的条件下，将得到的羟基氧化为酸得到化合物33；和/或，

在TBTU、DIPEA和NH₄Cl的条件下，将所述化合物33转化为一级酰胺化合物34；和/或，

所述酰胺化合物34中的MOM保护基和TES保护基在溴代邻苯二酚硼烷存在的条件下脱除。

6.如权利要求1所述的psymberin的制备方法，其特征在于，所述化合物26的制备方法包括如下步骤：

将化合物5中的羟基进行保护得到化合物21；

将化合物21中保护的一级羟基氧化得到化合物22；

将化合物22经过不对称Brown crotylation反应得到化合物23；

将化合物23的二级羟基上引入Boc基团得到化合物24；

将化合物24进行环化反应，然后水解得到化合物25；

将化合物25引入丙炔酸乙酯得到化合物4，所述化合物4的羟基进行保护得到化合物26；

其中，上述化合物的结构式如下：

7.如权利要求6所述的psymberin的制备方法，其特征在于，所述化合物5的制备方法包括：

将化合物7缩酮脱除以及跨环的氧杂Michael加成反应得到化合物6；

将所述化合物6的一级羟基保护得到化合物20；

将所述化合物20的内酯结构还原得到化合物5；

其中，上述化合物的结构式如下：

8.如权利要求7所述的psymberin的制备方法，其特征在于，所述化合物7的制备方法包括：

将化合物8与异戊烯基溴进行加成反应后，将产物末端双键氧化后再与磷酸酯化合物19进行烯基化和内酯化反应，得到化合物7；

其中，上述化合物的结构式如下：