[发明专利]显示装置及其制备方法

权利要求书

1.一种显示装置，其特征在于，包括：

基板；

设于所述基板上的发光单元；

覆盖所述发光单元的第一无机膜；

位于所述第一无机膜上的第一封装膜层，所述第一封装膜层包括依次设置的第一有机膜、第二无机膜、第二有机膜和第三无机膜；

其中，所述第一有机膜包括多个间隔设置的第一封装体，所述第二无机膜覆盖在所述第一封装体上，相邻所述第一封装体之间形成开口区，所述开口区内的所述第一无机膜上设有所述第二有机膜。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第一封装体呈长条状，所述第一封装体的厚度的范围为4-6μm，相邻所述第一封装体之间的间隔为20-50μm。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第二有机膜包括多个间隔设置的第二封装体，所述第二封装体与所述开口区对应设置。

4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，所述第二封装体的厚度与所述第一封装体的厚度相同。

5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置包括多个层叠设置的所述第一封装膜层。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括位于所述第一封装膜上的第二封装膜层，所述第二封装膜层包括依次层叠设置的第三有机膜与第四无机膜。

7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述第三无机膜的厚度的范围为0.5-2μm，所述第四有机膜的厚度的范围为4-6μm。

8.一种显示装置的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

在基板上制备发光单元；

在所述发光单元上形成第一无机膜；

在所述第一无机膜表面形成第一封装膜层，所述第一封装膜层包括依次设置的第一有机膜、第二无机膜、第二有机膜和第三无机膜；其中，所述第一有机膜包括多个间隔设置的第一封装体，所述第二无机膜覆盖在所述第一封装体上，相邻所述第一封装体之间形成开口区，所述开口区内的所述第一无机膜上设有所述第二有机膜。

9.根据权利要求8所述的发光显示装置的制备方法，其特征在于，在所述第一无机膜表面形成第一封装膜层的步骤，具体包括：

在所述第一无机膜表面，通过喷墨打印形成第一有机膜，所述第一有机膜包括多个间隔设置的第一封装体，相邻所述第一封装体之间形成开口区；

在形成有所述第一有机膜的所述第一无机膜上进行化学气相沉积，形成第二无机膜；

在所述开口区内的所述第二无机膜表面喷墨打印形成第二有机膜；

对所述第二有机膜表面形成第三无机膜。

10.根据权利要求8所述的发光显示装置的制备方法，其特征在于，在所述第一无机膜表面形成第一封装膜层之后，还包括：

在所述第一封装膜层表面制备第二封装膜层，所述第二封装膜层包括层叠设置的第三有机膜与第四无机膜；所述第三有机膜的厚度为4-6μm；所述第四无机膜的厚度为0.5-2μm。