[发明专利]一种膜制作装置及工艺在审

专利信息
申请号: 201910225757.3 申请日: 2019-03-22
公开(公告)号: CN109786587A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 肖鹤鸣 申请(专利权)人: 纳晶科技股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 付兴奇
地址: 310000 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 容纳腔 制作装置 第二管 连通 承载器 第一端 管腔 开口 半导体器件领域 封闭开口 可选 膜层 邻近 容纳 暴露 延伸 制作
【权利要求书】:

1.一种膜制作装置,其特征在于,包括:

具有容纳腔的容器,所述容器由第一端至第二端延伸而成,所述第二端形成有与所述容纳腔连通的开口;

承载器,所述承载器被构造来以能够旋转且邻近所述第一端的方式容纳于所述容纳腔内;

盖,所述盖连接于所述容器的所述第二端以封闭所述开口且能够可选地暴露所述开口;

用于从所述容器外引导气流进入所述容纳腔内的第一管,所述第一管的管腔与所述容纳腔连通,所述第一管连接于所述容器的所述第二端或所述盖;

用于从所述容纳腔内引导气流排出到所述容器外的第二管,所述第二管的管腔与所述容纳腔连通,所述第二管连接于所述容器的所述第一端。

2.根据权利要求1所述的膜制作装置,其特征在于,所述第一管具有送风口,所述送风口朝向所述承载器的中部;

优选地,所述承载器定义有过圆心的垂线,所述第一管的轴线与所述承载器的所述垂线之间具有夹角,且所述夹角为0~60度。

3.根据权利要求1或2所述的膜制作装置,其特征在于,所述第一管能够相对所述承载器运动;

优选地,所述第一管能够相对所述承载器水平和/或竖直运动;

更优选地,所述第一管的送风口与所述承载器的上表面之间具有距离;

进一步优选地,所述距离为1~10cm。

4.根据权利要求1所述的膜制作装置,其特征在于,所述第一管具有送风口,所述送风口呈扩散状或收缩状;

优选地,所述扩散状和所述收缩状能够可选且渐变地调节或切换;

更优选地,所述第一管的所述送风口在所述承载器的投影覆盖所述承载器的中心区域;

进一步优选地,所述中心区域的面积是所述承载器的面积的50%。

5.根据权利要求1所述的膜制作装置,其特征在于,所述膜制作装置包括有吸盘、送风器、排风器中的一种或多种的组合;

其中,所述吸盘匹配设置于所述承载器的下表面的几何中心;

所述送风器被构造来通过所述第一管向所述容纳腔内送风;

所述排风器被构造来通过所述第二管从所述容纳腔向所述容器外排风。

6.根据权利要求5所述的膜制作装置,其特征在于,所述送风器配置有风速调节器和/或风温调节器。

7.根据权利要求5或6所述的膜制作装置,其特征在于,所述送风器配置有补充器,所述补充器被构造来向所述送风器输送的气流中添加期望气体并共同输入至所述容纳腔内。

8.根据权利要求7所述的膜制作装置,其特征在于,所述补充器包括用于收容或产生所述期望气体的储存装置。

9.一种膜制作工艺,其特征在于,所述膜制作工艺能够由如权利要求1~8中任意一项所述的膜制作装置实施,所述工艺包括:

转移用于制作膜的流体至基板,使所述基板被驱动而处于第一旋转阶段,其中,所述基板负载在所述承载器且由所述承载器驱动;

通过所述承载器使所述基板被驱动而处于第二旋转阶段,并执行送风步骤和排风步骤;

通过所述承载器使所述基板被驱动而处于第三旋转阶段,并可选地停止所述送风步骤和/或排风步骤;

其中,所述送风步骤包括通过第一管向所述容纳腔内送风使所述流体被干燥;

其中,所述排风步骤包括通过所述第二管由所述容纳腔向所述容器外排风;

所述排风步骤同步或延后于所述送风步骤被执行。

10.根据权利要求9所述的膜制作工艺,其特征在于,所述第一旋转阶段为所述承载器的加速旋转过程,所述第二旋转阶段为所述承载器的匀速旋转过程,所述第三旋转阶段为所述承载器的减速旋转过程。

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