[发明专利]彩膜基板制作方法

说明书

本发明涉及一种彩膜基板制作方法，包括如下步骤：提供衬底基板；在衬底基板上形成具有多个透光开口的遮光层，遮光层将衬底基板围成多个像素区，衬底基板的像素区与遮光层的透光开口一一对应，多个像素区包括多个第一像素区、多个第二像素区和多个第三像素区，且第一像素区、第二像素区和第三像素区分别间隔设置；在形成了遮光层的衬底基板上形成第一光阻层，第一光阻层包括第一子光阻层和第一隔垫物；第一子光阻层形成于第一像素区内，第一隔垫物形成于遮光层上。上述彩膜基板制作方法，节省了彩膜基板的制作需耗费的人力物力资源，减少了生产工艺，从而降低了生产成本，而且缩短了生产节拍，提高了产品的市场竞争力。

技术领域

本发明涉及彩膜基板技术领域，特别是涉及一种彩膜基板制作方法。

背景技术

现有TFT-LCD彩膜基板制作，需要制作隔垫物，隔垫物起支撑盒厚作用，该隔垫物制作需要单独的隔垫物掩膜版，并经过曝光、显影工艺才能实现，工艺流程繁多，消耗人力物力成本较大，产品制作周期较长，市场竞争力较弱。

发明内容

基于此，有必要针对彩膜基板制作需要单独制作隔垫物掩膜版的问题，提供一种彩膜基板制作方法。

一种彩膜基板制作方法，包括如下步骤：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成具有多个透光开口的遮光层，所述遮光层将所述衬底基板围成多个像素区，所述衬底基板的所述像素区与所述遮光层的所述透光开口一一对应，多个所述像素区包括多个第一像素区、多个第二像素区和多个第三像素区，且所述第一像素区、所述第二像素区和所述第三像素区分别间隔设置；

在形成了所述遮光层的所述衬底基板上形成第一光阻层，所述第一光阻层包括第一子光阻层和第一隔垫物；所述第一子光阻层形成于所述第一像素区内，所述第一隔垫物形成于所述遮光层上；

在所述第一光阻层上形成第二光阻层，所述第二光阻层包括第二子光阻层和第二隔垫物；所述第二子光阻层形成于所述第二像素区内，所述第二隔垫物形成于所述第一隔垫物上；

在所述第二光阻层上形成第三光阻层，所述第三光阻层包括第三子光阻层和第三隔垫物；所述第三子光阻层形成于所述第三像素区内，所述第三隔垫物形成于所述第二隔垫物上。

在其中一个实施例中，所述形成第一子光阻层和第一隔垫物的步骤包括：提供第一掩膜版，其中，所述第一掩膜版具有第一开口和第二开口，将所述第一开口对齐于所述第一像素区，所述第二开口对齐于所述遮光层，在形成了所述遮光层的所述衬底基板上形成所述第一光阻层，通过所述第一掩膜版对所述第一光阻层进行曝光和显影，以在所述第一像素区内形成所述第一子光阻层，在所述遮光层上形成所述第一隔垫物。

在其中一个实施例中，所述第一开口的尺寸大于所述透光开口的尺寸。

在其中一个实施例中，所述形成第二子光阻层和第二隔垫物的步骤包括：提供第二掩膜版，其中，所述第二掩膜版具有第三开口和第四开口，将所述第三开口对齐于所述第二像素区，所述第四开口对齐于所述第一隔垫物，在所述第一光阻层上形成第二光阻层，通过所述第二掩膜版对所述第二光阻层进行曝光和显影，以在所述第二像素区内形成所述第二子光阻层，在所述第一隔垫物上形成所述第二隔垫物。

在其中一个实施例中，所述形成第三子光阻层和第三隔垫物的步骤包括：提供第三掩膜版，其中，所述第二掩膜版具有第五开口和第六开口，将所述第五开口对齐于所述第三像素区，所述第六开口对齐于所述第二隔垫物，在所述第二光阻层上形成第三光阻层，通过所述第三掩膜版对所述第三光阻层进行曝光和显影，以在所述第三像素区内形成所述第三子光阻层，在所述第二隔垫物上形成所述第三隔垫物。

在其中一个实施例中，所述衬底基板为玻璃基板和石英基板的其中之一。