[发明专利]溅射靶材及其使用方法

说明书

溅射靶材及其使用方法。溅射靶材包括背板、溅射板与保护单元。背板具有上表面。溅射板设置在上表面上，并具有一溅射板边缘。保护单元设置在上表面上，并相邻溅射板边缘。本发明技术方案通过保护单元、中间保护单元共同防止背板在溅射工艺中被溅射消耗而损坏的问题产生，以进一步延长背板的使用寿命，因此可降低制造成本，且更换保护单元等的方法简单、快速，可提升工艺效率。

技术领域

本发明是有关于一种溅射靶材及其使用方法。

背景技术

目前，溅镀技术(sputtering)为主要沉积镀膜技术所使用的方式之一。溅镀技术一般是在溅镀腔室中形成电浆，电浆(plasma)会对金属靶材进行离子轰击(ionbombardment)，使靶材的金属原子撞击出，而形成气体分子发射到达所要沉积的基材上，气体分子经过附着、吸附、表面迁徙、成核等溅镀作用之后，最终在基材上形成具有金属原子的金属薄膜。溅镀技术广泛地应用在工业生产和科学研究领域。然而，一般溅射靶材于溅镀腔室中进行溅镀工艺时，背板对应溅射板边缘容易被溅镀消耗凹损，须进行重工，例如以砂纸磨平凹陷处并进行填补。

发明内容

本发明有关于一种溅射靶材及其使用方法。

根据本发明的一方面，提出一种溅射靶材，其包括背板、溅射板、及保护单元。背板具有上表面。溅射板设置在上表面上，并具有一溅射板边缘。保护单元设置在上表面上，并相邻溅射板边缘。

于一实施例中，该上表面具有至少一凹口，该保护单元是可卸除地设置在该至少一凹口中。

于一实施例中，该背板具有二该凹口，二该凹口彼此隔开地配置在该背板的该上表面上，二该凹口分别对应该溅射板的相对两侧，二该凹口皆设有该保护单元。

于一实施例中，该溅射板的材质为金属或氧化物，或该背板的材质为金属。

于一实施例中，该保护单元满足至少一项选自下列(1)～(10)的结构特征：

(1)该保护单元的材质为金属；

(2)该保护单元的高度介于0.1mm至4mm；

(3)该保护单元的宽度介于90mm至190mm；

(4)该保护单元的长度介于90mm至3000mm；

(5)该保护单元的宽度不小于该溅射板的宽度且不大于该背板的宽度；

(6)该保护单元的长度不大于该背板的长度；

(7)该保护单元的高度占该背板的高度的0.5％至20％；

(8)该保护单元的宽度占该背板的宽度的47％至100％；

(9)该保护单元的长度占该背板的长度的3％至100％；

(10)该保护单元有一保护部侧面，该溅射板具有一溅射侧面，该溅射侧面与该保护部侧面互相面对或直接接触，并具有互补的形状。

于一实施例中，该保护单元包括一第一保护部及一第二保护部，该第一保护部或该第二保护部满足至少一项选自下列(1)～(3)的结构特征：

(1)该第一保护部露出于该溅射板，该第二保护部乘载该溅射板并与该溅射板重叠；

(2)该第一保护部与该第二保护部相连接；

(3)该第一保护部具有一凸部，该凸部凸出于该背板且并列该溅射板，或该凸部的高度低于该溅射板的高度。

于一实施例中，更包括一固定件，用以将该保护单元固定至该背板，其中该固定件包括螺丝、插栓、或黏着剂。