[发明专利]一种掩模版、运动台定位误差补偿装置及补偿方法

说明书

本发明公开了一种掩模版、运动台定位误差补偿装置及补偿方法。所述掩模版包括测量标记；所述测量标记包括至少一个测量单元，所述测量单元包括两个标记组，所述标记组包括X向标记和Y向标记，所述X向标记包括至少一个X向光栅和X向定位标记，所述Y向标记包括至少一个Y向光栅和Y向定位标记；所述两个标记组包括第一标记组和第二标记组，所述第一标记组定位的中心为第一中心，所述第二标记组定位的中心为第二中心，所述测量标记顺时针或逆时针旋转90°后，所述第一中心与未旋转前所述第二中心重合。本发明实施例提供的技术方案，实现了运动台高阶形变的校正，且可适用于在线周期性校准。

技术领域

本发明实施例涉及光刻技术领域，尤其涉及一种掩模版、运动台定位误差补偿装置及补偿方法。

背景技术

光刻技术或称光学刻蚀术，己经被广泛应用于集成电路制造工艺中。该技术通过光学投影装置曝光，将设计的掩模图形转移到光刻胶上。光学投影装置作为集成电路制造工艺中的重要设备，最终决定集成电路的特征尺寸，其精度要求对于光刻工艺相当重要。在曝光过程中，由于承载硅片的工件台与承载掩模的掩模台会发生步进或者扫描运动，因此运动台的定位精度势必直接影响曝光于硅片上的图样质量。

采用干涉仪控制的运动台测量系统中影响定位精度的是反射平面镜，采用平面光栅尺控制的运动台测量系统中影响定位精度的是平面光栅。无论采用哪种控制方式，尽管反射镜平面或光栅尺平面经过了精密的机械加工、打磨，但是在其表面上仍然不可避免地会存在缺陷。即使是只有几纳米大小的缺陷点，也使光学投影装置的精度产生相当大的误差。为尽可能的减少上述误差，必须在曝光之前对光学平面表面进行测量，得到其表面面形图像的测量数据，然后对表面缺陷进行修正补偿，从而满足系统的高精度要求。但现有技术中的运动台定位误差补偿装置通常仅能够实现低阶误差补偿，无法校准高阶形变。

发明内容

本发明提供一种掩模版、运动台定位误差补偿装置及补偿方法，以实现掩模台和工件台的高阶定位误差补偿。

第一方面，本发明实施例提供了一种掩模版，包括测量标记；

所述测量标记包括至少一个测量单元，所述测量单元包括两个标记组，所述标记组包括X向标记和Y向标记，所述X向标记包括至少一个X向光栅和X向定位标记，所述Y向标记包括至少一个Y向光栅和Y向定位标记；

所述两个标记组包括第一标记组和第二标记组，所述第一标记组定位的中心为第一中心，所述第二标记组定位的中心为第二中心，所述测量标记顺时针或逆时针旋转90°后，所述第一中心与未旋转前所述第二中心重合。

第二方面，本发明实施例还提供了一种运动台定位误差补偿装置，包括：

掩模版，所述掩模版上设有用于运动台定位误差测量的测量标记；

掩模台，用于承载所述掩模版；

工件台，用于承载涂胶后的基底；

投影物镜，用于将所述掩模版上的所述测量标记成像在所述基底上；

对准装置，用于测量所述测量标记在显影后所述基底上的成像标记；

其中，所述测量标记包括两个标记组，所述标记组包括X向标记和Y向标记，所述X向标记包括至少一个X向光栅和X向定位标记，所述Y向标记包括至少一个Y向光栅和Y向定位标记；

所述两个标记组包括第一标记组和第二标记组，所述第一标记组定位的中心为第一中心，所述第二标记组定位的中心为第二中心，所述测量标记顺时针或逆时针旋转90°后，所述第一中心与未旋转前所述第二中心重合。

第三方面，本发明实施例还提供了一种运动台定位误差补偿方法，包括：