[发明专利]一种掩模版、运动台定位误差补偿装置及补偿方法有效
| 申请号: | 201910152262.2 | 申请日: | 2019-02-28 |
| 公开(公告)号: | CN111624856B | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
| 发明(设计)人: | 吴丽丽 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 模版 运动 定位 误差 补偿 装置 方法 | ||
1.一种掩模版,其特征在于,包括测量标记;
所述测量标记包括至少一个测量单元,所述测量单元包括两个标记组,所述标记组包括X向标记和Y向标记,所述X向标记包括至少一个X向光栅和X向定位标记,所述Y向标记包括至少一个Y向光栅和Y向定位标记;
所述两个标记组包括第一标记组和第二标记组,所述第一标记组定位的中心为第一中心,所述第二标记组定位的中心为第二中心,所述测量标记顺时针或逆时针旋转90°后,所述第一中心与未旋转前所述第二中心重合;
所述测量标记的成像标记位于基底的划线槽中。
2.根据权利要求1所述的掩模版,其特征在于,所述至少一个X向光栅的数量大于1,所述至少一个Y向光栅的数量大于1时,所述X向标记中的多个所述X向光栅沿Y方向排列;所述Y向标记中的多个所述Y向光栅沿X向排列。
3.根据权利要求2所述的掩模版,其特征在于,所述X向标记中的多个所述X向光栅的狭缝宽度不同,所述Y向标记中的多个所述Y向光栅的狭缝宽度不同。
4.根据权利要求3所述的掩模版,其特征在于,所述X向标记包括两个X向光栅;所述Y向标记包括两个Y向光栅。
5.根据权利要求4所述的掩模版,其特征在于,同一所述X向标记中,所述X向定位标记位于两个所述X向光栅之间;同一所述Y向标记中,所述Y向定位标记位于两个所述Y向定位标记之间。
6.根据权利要求1所述的掩模版,其特征在于,所述X向定位标记和所述Y向定位标记的形状可以为十字形。
7.一种运动台定位误差补偿装置,其特征在于,包括:
掩模版,所述掩模版上设有用于运动台定位误差测量的测量标记;
掩模台,用于承载所述掩模版;
工件台,用于承载涂胶后的基底;
投影物镜,用于将所述掩模版上的所述测量标记成像在所述基底上;
对准装置,用于测量所述测量标记在显影后所述基底上的成像标记;
其中,所述测量标记包括两个标记组,所述标记组包括X向标记和Y向标记,所述X向标记包括至少一个X向光栅和X向定位标记,所述Y向标记包括至少一个Y向光栅和Y向定位标记;
所述两个标记组包括第一标记组和第二标记组,所述第一标记组定位的中心为第一中心,所述第二标记组定位的中心为第二中心,所述测量标记顺时针或逆时针旋转90°后,所述第一中心与未旋转前所述第二中心重合;
所述测量标记的成像标记位于基底的划线槽中。
8.根据权利要求7所述的运动台定位误差补偿装置,其特征在于,还包括与所述掩模台连接的掩模台位置测量系统,以及与所述工件台连接的工件台位置测量系统。
9.根据权利要求8所述的运动台定位误差补偿装置,其特征在于,所述掩模台位置测量系统和所述工件台位置测量系统采用干涉仪、光栅尺或平面光栅尺。
10.根据权利要求7所述的运动台定位误差补偿装置,其特征在于,所述对准装置采用CCD或光栅尺。
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