[发明专利]PCB干膜显影槽清槽剂及其制备方法与应用

说明书

本发明公开了一种PCB干膜显影槽清槽剂，属于显影槽清洁剂技术领域，其技术方案要点是，包括按重量份计的如下组分：有机碱10‑15wt%、有机溶剂3‑8wt%、无机碱15‑25wt%、螯合剂8‑12wt%、助洗剂0.5‑1.5wt%、渗透剂0.5‑3wt%、消泡剂2‑8wt%、余量为水；所述有机碱和无机碱均为水溶性碱。本发明的清槽剂具有无刺激性气味、环保无毒害、清洗效果好的特点，采用本发明的清槽剂对显影槽进行清洁可显著增加对显影槽内残留黄色附着物的去除率，尤其是对喷嘴、滚轮等部位难以清理干净残留物的去除效果佳，利于提高PCB显影加工的良品率。本发明还相应公开了一种上述PCB干膜显影槽清槽剂的制备方法及其应用。

技术领域

本发明涉及显影槽清洁剂领域，更具体地说，它涉及一种PCB干膜显影槽清槽剂及其制备方法与应用。

背景技术

干膜（Dry film）在PCB涂装中是相对湿膜（Wet film）而言的,干膜是一种高分子的化合物，它通过紫外线的照射后能够产生一种聚合反应形成一种稳定的物质附着于板面，从而达到阻挡电镀和蚀刻的功能。

 干膜显影通常是在盛有显影液的显影槽中进行。水溶性干膜的显影液为1-2％的无水碳酸钠溶液，液温30—40℃。显影的速度在范围内随温度增高而加快，不同的干膜显影温度略有差别，需根据实际情况调整，温度过高会使膜缺乏韧性变脆。显影过程中感光膜未曝光部分的活性基团与碱溶液反应生成可溶性物质而溶解下来，感光膜中活性基团-COOH与碱液中Na⁺作用生成亲水性集团-COONa,从而把未曝光的部分溶解下来，而曝光部分的干膜不被溶胀。

显影过程产生的干膜残胶、膜碎及干膜分解产生的光敏剂（苯偶姻及衍生物类光敏剂：安息香双甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醚、安息香丁醚等；苯偶酰类光敏剂：二苯基乙二酮、二苯基乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮等）等形成黄色的残留物附着于显影槽槽壁等处，随着时间推移而容易累积到辊轮和喷嘴上，在后续生产中，容易反粘在板面上而造成PAD污染，对化金、化锡等后续制程造成不良。因而，必须定期采用清槽剂对显影槽进行保养。

现有技术中主要采用普通碱保养法和普通酸保养法对显影槽进行保养。

普通碱保养法，对干膜残胶有良好的效果，但对膜碎及黄色物质基本无明显效果。现有技术中授权公告号为CN102181328B的中国专利公开了一种碱性清槽剂，其包括以下质量百分比计的：20-40%的片碱、20-40%的灭菌剂、5-20%的甲醇。该种清槽剂的主要成分即为氢氧化钠，其对油污、油垢类物质具有较好的去除效果，但无法清洗掉顽固性高分子聚合残留物，且配方中还掺有有毒的甲醇。更甚者，一些市售的清槽剂中还掺有二甲苯类高毒性物质，存在严重危害员工身体健康的问题。

普通酸保养法，如用99.9%的冰醋酸全溶液开缸保养，这种保养方法对干膜碎及黄色物质虽有一定清洗效果，但是存在气味刺鼻及成本高的问题；又如现有技术中申请公开号为CN102757871A的中国专利公开了一种PCB干膜显影槽清洗剂，所述清洗剂由以下重量百分比的溶剂A和溶剂B组成，其中，溶剂A的组成为：磷酸15~20%，乙酸4~10%，余量为水；溶剂B的组成，以溶剂A为基础量：乳化剂3~6%，增溶剂0.5~1%,表面活性剂1~3%；申请公开号为CN108373950A的中国专利公开了一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂及其清洗工艺，其由含量为以下质量百分数的组分组成：硫酸10～20％；乙酸10～30％；增溶剂1～5％；表面活性剂0.5～3％；水余量。申请公开号为CN102757871A、CN108373950A的专利公开的清槽剂均是以乙酸（冰醋酸）为基础，并掺入磷酸配合使用，以期减少刺鼻气味的问题。但其仅仅是在一定程度上改善了气味刺鼻的问题，并不能完全解决。同时，此类以酸为基础的清槽剂任然存在对油污及顽固型的高分子残留的去除效果不够理想的问题。

针对上述问题，本发明旨在提供一种环保型的、高清洁效率的PCB干膜显影槽清槽剂及其制备方法与应用。

发明内容