[发明专利]基于开口矩形波导的介质复介电常数无损反射测量方法有效
| 申请号: | 201910071878.7 | 申请日: | 2019-01-25 |
| 公开(公告)号: | CN109669075B | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
| 发明(设计)人: | 田径;李路同;蒋碧瀟;胡皓全;唐璞;陈波;何子远;雷世文 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
| 主分类号: | G01R27/26 | 分类号: | G01R27/26 |
| 代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 甘茂 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 开口 矩形波导 介质 介电常数 无损 反射 测量方法 | ||
1.基于开口矩形波导的介质复介电常数无损反射测量方法,包括以下步骤:
步骤1:搭建测量平台,将开口矩形波导与矢量网络分析仪的测试端口相连,并对开口矩形波导的辐射口径面进行校准、使其成为测试参考面,其中,开口矩形波导的窄边宽度为2b、宽边长度为2a;
步骤2:选取介电常数为ε′r、厚度为d′2的标准测试件作为校准件,将校准件放置在距离测试参考面d1距离的位置,并对开口矩形波导辐射口径面主模反射系数进行测量,记为Γ′;进而计算得校准系数T:
其中:
ω=2πf为电磁波的角频率、μ0和ε0分别为自由空间的磁导率和介电常数,kx、ky为二维空间平面x、y所对应的平面波谱域分量;
步骤4:测量待测介质厚度、记为d2,并将待测介质放置在距离测试参考面d1距离的位置,并对开口矩形波导辐射口径面主模反射系数进行测量,记为Γ;
步骤5:建立逆向求解待测介质复介电常数的优化目标函数:
采用二维搜索或迭代算法求解F(εr)的最小值,F(εr)的最小值对应的εr则为待测介质的复介电常数。
2.按权利要求1所述基于开口矩形波导的介质复介电常数无损反射测量方法,其特征在于,所述基于开口矩形波导的介质复介电常数无损反射测量方法,电磁波频率在X波段内,d1的范围为3~4cm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910071878.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





