[发明专利]测量用X射线CT装置及其校正方法在审
| 申请号: | 201910046385.8 | 申请日: | 2019-01-18 |
| 公开(公告)号: | CN110057844A | 公开(公告)日: | 2019-07-26 |
| 发明(设计)人: | 浅野秀光;今正人 | 申请(专利权)人: | 株式会社三丰 |
| 主分类号: | G01N23/046 | 分类号: | G01N23/046 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 被检体 测量 校正 校正治具 检测X射线 照射X射线 断层图像 焦点位置 使用检测 投影图像 校正单元 配置 重构 检测 | ||
1.一种测量用X射线CT装置,一边使配置在旋转台上的被检体旋转,一边从配置于旋转台的一侧的X射线源照射X射线,对由配置于旋转台的与所述X射线源相反一侧的X射线检测器得到的投影图像进行重构来得到被检体的断层图像,所述测量用X射线CT装置的特征在于,具备:
X射线波动校正治具,其配置在X射线的视场内;
检测单元,其使用该X射线波动校正治具的X射线投影像来检测X射线焦点位置的波动;以及
校正单元,其使用检测出的X射线焦点位置的波动来对被检体的X射线投影图像进行校正。
2.根据权利要求1所述的测量用X射线CT装置,其特征在于,
所述X射线波动校正治具为X射线屏蔽框,所述X射线屏蔽框配置为,在X射线投影图像中,该X射线屏蔽框的X射线投影像包围被检体的X射线投影像。
3.根据权利要求2所述的测量用X射线CT装置,其特征在于,
所述X射线屏蔽框为长方形,且设置为使由该X射线屏蔽框开设出的窗整体被投影到X射线检测器。
4.根据权利要求3所述的测量用X射线CT装置,其特征在于,
所述窗的宽度和高度具有校正后的长度,所述X射线屏蔽框由热膨胀系数小的材料制成。
5.根据权利要求1所述的测量用X射线CT装置,其特征在于,
能够调整所述X射线波动校正治具的位置。
6.根据权利要求1所述的测量用X射线CT装置,其特征在于,
所述X射线波动校正治具是形成于X射线准直器的X射线通过口,所述X射线准直器是为了限制X射线的照射范围而设置的。
7.根据权利要求6所述的测量用X射线CT装置,其特征在于,
所述X射线通过口为在横向上长的狭缝与在纵向上长的狭缝的组合。
8.一种测量用X射线CT装置的校正方法,所述测量用X射线CT装置一边使配置在旋转台上的被检体旋转,一边从配置于旋转台的一侧的X射线源照射X射线,对由配置于旋转台的与所述X射线源相反一侧的X射线检测器得到的投影图像进行重构来得到被检体的断层图像,所述测量用X射线CT装置的校正方法的特征在于,包括以下步骤:
将X射线波动校正治具配置在所述测量用X射线CT装置的X射线的视场内;
使用该X射线波动校正治具的X射线投影像来检测X射线焦点位置的波动;以及
使用检测出的X射线焦点位置的波动来对被检体的X射线投影图像进行校正。
9.根据权利要求8所述的测量用X射线CT装置,其特征在于,
将在某个时点由X射线波动校正治具形成的窗的位置和尺寸作为基准来对各投影图像的窗的位置和尺寸进行比较,由此检测X射线焦点位置的波动。
10.根据权利要求8所述的测量用X射线CT装置,其特征在于,
将在第一张投影图像中求出的、由作为X射线波动校正治具的X射线屏蔽框开设出的框窗的顶点设为基准顶点,使用该基准顶点来对第二张及以后的投影图像进行校正。
11.根据权利要求10所述的测量用X射线CT装置,其特征在于,
在投影图像的校正中使用仿射变换。
12.根据权利要求10所述的测量用X射线CT装置,其特征在于,
根据相邻的两个基准顶点求出框窗在投影中的物理长度,来计算实际的投影倍率,使用该实际的投影倍率求出X射线源位置的偏移来对投影倍率进行校正。
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