[发明专利]一种用于显示屏擦拭的氟化清洗剂及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910040176.2 申请日: 2019-01-16
公开(公告)号: CN109735401A 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 肖东明;刘玉洁;刘家党;肖大为;肖涵飞;肖健;肖雪 申请(专利权)人: 深圳市同方电子新材料有限公司
主分类号: C11D7/26 分类号: C11D7/26;C11D7/30;C11D7/60
代理公司: 深圳市海盛达知识产权代理事务所(普通合伙) 44540 代理人: 胡丽琴
地址: 518000 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 清洗剂 氟化 制备 显示屏 质量百分比 擦拭 边框 臭氧层破坏 清洁效果 人体健康 兼容性 卤代烃 氢氟醚 挥发 全氟 环保 损害
【说明书】:

本发明提供了一种用于显示屏擦拭的氟化清洗剂及其制备方法,所述氟化清洗剂包含的组分及其质量百分比为:氢氟醚60‑90%,全氟卤代烃5‑10%,C4‑C9酯0.1‑10%,醇1‑20%,上述组分的质量百分比之和为100%。本发明的清洗剂,不含HCFC/CFC等对臭氧层破坏的物质,具有很好的清洁效果,而且环保,不易燃,稳定,挥发快,材料兼容性好,制备方法简单,对显示屏及边框无损害,在使用过程中对人体健康更加友好,符合欧盟ROSH和REACH标准。

技术领域

本发明涉及一种显示屏擦拭的清洗剂,尤其涉及一种用于显示屏擦拭的氟化清洗剂及其制备方法。

背景技术

随着科技的不断发展,电子产品的集成度越来越高,为确保产品的功能正常,对产品的清洁度要求越来越高。显示屏制造行业,作为电子行业发展的一部分,同样发展迅速。我国作为全球最大的液晶面板需求市场,近年来在液晶显示产业飞速发展,已成为全球拥有高世代液晶显示面板生产线最多的主产区。

在生产液晶显示屏的其中一个环节,显示屏组装完成后需要对显示屏进行表面清洁。要确保产品的功能正常,产品的清洗变得极为重要。过去电子行业通常使用的CFC(Chlorofluorocarbons,氯氟碳化合物),因为会造成臭氧层的破坏及温室效应,已被禁用。其替代品HCFC(hydrochlorofluorocarbons,氯氟烃)因为仍然含氯,只能作为过渡性替代清洗溶剂。

本发明与HCFC等过渡性替代溶剂不同,单独含有氟元素对臭氧层无破坏作用,本发明优异的环保、不易燃、稳定、兼容性好等特性,为需要精密清洗的显示屏制造产业提供了有效,安全,符合环保法规要求的解决方案。

例如,中国专利CN103740503A公开了一种含氟清洗剂及其制备方法,原料组成包括氟碳溶剂、氢氟醚、醇、烷烃和稳定剂等,但是该技术方案加入烷烃类溶剂(正己烷、正庚烷等),存在职业健康危害、对胶类残留去除力差、对显示屏塑胶边框兼容性差等缺点,不适合用于显示屏擦拭清洗。

中国专利CN108531303A公开了一种含有酰基氨基酸类表面活性剂的碳氢清洗剂及制备方法,原料组成包括C4-C12烷烃、C4-C12烷基醇、低碳醇(乙醇和丙醇)、非离子型氨基酸表面活性剂、烷基糖苷、山梨醇单油酸酯、脂肪酸甲酯乙氧基化合物、氢氟醚。该技术方案同样加入了C4-C12烷烃类物质,存在职业健康危害。而且该技术方案中加入了不易挥发的非离子型氨基酸表面活性剂、烷基糖苷、山梨醇单油酸酯,使得清洗擦拭后会在工件表面残留清洗剂,不易挥发,需增加漂洗的工序,就显示屏擦拭清洁领域高效率清洁、挥发快要求来说,就显得工艺繁杂、低效率,所以不适合用于此领域。

发明内容

针对以上技术问题,本发明公开了一种用于显示屏擦拭的氟化清洗剂及其制备方法,适用于显示屏擦拭清洁,彻底清除显示屏表面的残胶、灰尘、油脂等残留物。常温使用,高效节能,环保,不易燃,稳定,材料兼容性好;并且制备方法简单,对显示屏及边框无损害。

对此,本发明的技术方案为:

一种用于显示屏擦拭的氟化清洗剂,其包含的组分及其质量百分比为:氢氟醚60-90%,全氟卤代烃5-10%,C4-C9酯0.1-10%,醇1-20%,上述组分的质量百分比之和为100%。

采用此技术方案,上述所用的组分都是无毒的或者低毒的溶剂,几乎完全可以消除溶剂对工人的职业健康危害;配方中添加了全氟卤代烃类物质,起到了阻燃效果的同时解决了挥发慢的问题,擦拭清洁之后能快速挥发,并且无任何残留,可以更好的提高清洁效率。

另外,上述清洗剂既有适度的溶解性,又有良好的材料兼容性。该清洗剂无色透明且粘度低,挥发快,不易燃,安全性高,尤其适合触摸屏、显示屏擦拭清洁。而且,和以前被使用的氟化液相比臭氧层破坏系数(ODP值)为0,全球变暖潜在值(GWP值)降低,满足环保法规的要求。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市同方电子新材料有限公司,未经深圳市同方电子新材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910040176.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top