[发明专利]射线辐照装置在审
申请号: | 201910020002.X | 申请日: | 2019-01-09 |
公开(公告)号: | CN109524146A | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 梁征;周合军;傅冰;王强强;孟辉;何远;李营;宗春光;李荐民;李元景;陈志强 | 申请(专利权)人: | 同方威视技术股份有限公司;清华大学;同方威视科技(北京)有限公司 |
主分类号: | G21K5/00 | 分类号: | G21K5/00;G21F3/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 艾春慧 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 屏蔽 辐照 射线辐照 主屏蔽体 屏蔽体 载物台 辐照物品 装卸状态 射线 空间发射 射线源 外部 减小 载物 连通 装卸 配合 承载 体内 | ||
本公开提供一种射线辐照装置,包括:主屏蔽体,内部设有辐照空间和连通辐照空间与主屏蔽体外部的通道;射线源,设于主屏蔽体内,用于向辐照空间发射射线;运动屏蔽体,包括屏蔽部和连接于屏蔽部的载物台,运动屏蔽体相对于主屏蔽体运动以在屏蔽状态和物品装卸状态之间切换,其中,在屏蔽状态,屏蔽部与通道配合共同屏蔽辐照空间内的射线,载物台位于辐照空间内以使载物台上承载的被辐照物品接受射线辐照;在物品装卸状态,屏蔽部与通道解除配合,载物台位于主屏蔽体外部以装卸被辐照物品。本公开提供的射线辐照装置可以降低成本及减小屏蔽体的占地面积。
技术领域
本公开涉及射线辐照技术领域,特别涉及一种射线辐照装置。
背景技术
现有技术中,射线辐照装置,如高能X射线辐照装置中,需要为高能X射线源建立屏蔽体,用来阻挡X射线和中子等射线以防泄漏。但是被辐照物品需要搬运到X射线源附近接受辐照,然后离开X射线源。这就导致即使搬运很小的物品,也需要在屏蔽体上开通道。通道造成的空隙带来额外射线漏出,因此需要在现有开通道的屏蔽体外部建立更大的外围屏蔽体,用来吸收这部分额外漏出的射线。
图1为现有技术的高能X射线辐照装置的原理性结构示意图。如图1所示,主屏蔽体10内部设置高能X射线源20,主屏蔽体10内设置通道,通道内设置搬运机构30,被辐照物品经输送机构40输送至搬运机构30上,由搬运机构30将被辐照物品搬运至高能X射线源20附近接受辐照,被辐照物品A经高能X射线源20辐照后再经搬运机构30搬离X射线源20。外围屏蔽体50内设置容置槽,主屏蔽体10、搬运机构30和至少部分输送机构40均设置于容置槽内。通道16开口面对外围屏蔽体50的容置槽的槽底壁。
以上现有技术中,用于辐照的高能X射线源20功率越大,主屏蔽体10占地面积和重量越大,并且呈几何级数增长,外围屏蔽体50随之增大。制造主屏蔽体10和外围屏蔽体50的材料价格较高,对于射线源20功率要求很高的射线辐照装置,如光子活化分析装置,增大了投资成本。而且屏蔽装置占地面积较大。
发明内容
本公开的目的在于提供一种射线辐照装置,包括:
主屏蔽体,内部设有辐照空间和连通所述辐照空间与所述主屏蔽体外部的通道;
射线源,设于所述主屏蔽体内,用于向所述辐照空间发射射线;和
运动屏蔽体,包括屏蔽部和连接于所述屏蔽部的载物台,所述运动屏蔽体相对于所述主屏蔽体运动以在屏蔽状态和物品装卸状态之间切换,其中,在所述屏蔽状态,所述屏蔽部与所述通道配合共同屏蔽所述辐照空间内的射线,所述载物台位于所述辐照空间内以使所述载物台上承载的被辐照物品接受所述射线辐照;在所述物品装卸状态,所述屏蔽部与所述通道解除配合,所述载物台位于所述主屏蔽体外部以装卸所述被辐照物品。
在一些实施例中,所述运动屏蔽体通过直线运动、摆动和/或转动在所述屏蔽状态和所述物品装卸状态之间切换。
在一些实施例中,所述射线辐照装置还包括输送机构,在所述物品装卸状态,所述输送机构与所述载物台配合以向所述载物台输送所述被辐照物品或从所述载物台接收所述被辐照物品。
在一些实施例中,所述通道为变截面通道,所述屏蔽部包括与所述变截面通道配合的变截面体,以防止所述辐照空间内的射线经直线路径通过所述通道与所述屏蔽部之间的间隙。
在一些实施例中,
所述主屏蔽体包括由内向外的多层主屏蔽体层,所述辐照空间位于最内侧的所述主屏蔽体层内部;
所述运动屏蔽体的屏蔽部包括在所述屏蔽状态从所述辐照空间至远离所述辐照空间顺次设置的多层运动屏蔽体层。
在一些实施例中,各所述运动体屏蔽层与各所述主屏蔽体层对应设置,各所述运动屏蔽体层与对应所述主屏蔽体层的材料和厚度相同。
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