[发明专利]一种高附着力陶瓷及玻璃反射涂层浆料及其制备方法和应用有效
申请号: | 201910005652.7 | 申请日: | 2019-01-03 |
公开(公告)号: | CN109786493B | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | 包启富;周健儿;董伟霞 | 申请(专利权)人: | 景德镇陶瓷大学 |
主分类号: | H01L31/056 | 分类号: | H01L31/056 |
代理公司: | 广州广信知识产权代理有限公司 44261 | 代理人: | 李玉峰 |
地址: | 333403 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 附着力 陶瓷 玻璃 反射 涂层 浆料 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种高附着力陶瓷及玻璃反射涂层浆料,其特征在于:包括基料和水性调墨油;所述基料的组成为纳米改性金红石50~60wt%、无铅玻璃熔剂30~40wt%、纳米沉淀硫酸钡8~15wt%、纳米氧化锆0~5wt%;其中,所述纳米改性金红石、纳米沉淀硫酸钡、纳米氧化锆的粒度<0.1μm;所述无铅玻璃熔剂的化学组成为Li2O 5~10wt%、Na2O 5~10wt%、K2O 4~8wt%、ZnO 10~15wt%、B2O3 10~16wt%、SiO2 40~50wt%、TiO2 2~5wt%、Al2O3 1~3wt%、BaO1~5wt%,其粒度<4μm;所述水性调墨油的用量为基料的25~35wt%;所述反射涂层浆料涂覆在陶瓷或玻璃表面形成15~25μm的厚度后,在680~720℃温度下烘烤90~150s所得的涂层其附着力为0级、铅笔硬度为9H、对可见光反射率>82%。
2.一种如权利要求1所述高附着力陶瓷及玻璃反射涂层浆料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
(1) 所述无铅玻璃熔剂经熔融后淬冷,烘干后球磨至粒度为<4μm;
(2) 按照所述基料组成进行球磨混合、脱水、烘干、打粉而得到混合料;
(3) 在所述混合料中加入水性调墨油进行捏练、轧膜,即得到高附着力陶瓷及玻璃反射涂层浆料。
3.根据权利要求2所述的高附着力陶瓷及玻璃反射涂层浆料的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中无铅玻璃熔剂的熔融温度为1300~1350℃。
4.一种如权利要求1所述高附着力陶瓷及玻璃反射涂层浆料的应用,其特征在于:将所述反射涂层浆料采用丝网印刷的方法涂覆在陶瓷或玻璃表面上,在680~720℃温度下烘烤90~150s,即得到高附着力陶瓷及玻璃反射涂层。
5.根据权利要求4所述高附着力陶瓷及玻璃反射涂层浆料的应用,其特征在于:所述反射涂层浆料的涂覆厚度为15~25μm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的