[发明专利]显示装置以及显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种显示装置，其特征在于，具备：

基板、设置在所述基板上的第一晶体管、以不与所述第一晶体管重叠的方式设置在所述基板上的第二晶体管，

所述第一晶体管具备：设置在所述基板上的多晶硅层、设置在所述多晶硅层上的第一绝缘膜、设置在所述第一绝缘膜上的第一栅电极、设置在所述第一栅电极上的第二绝缘膜，

所述第二晶体管具备：设置在所述第一绝缘膜上的氧化物半导体层、设置在所述氧化物半导体层上的第三绝缘膜、设置在所述第三绝缘膜上的第二栅电极，

所述第一绝缘膜以及所述第三绝缘膜是SiOx膜，

所述第二绝缘膜是含氢的SiNx膜，并且以与所述多晶硅层重叠的方式设置，并且以不与所述氧化物半导体层重叠的方式设置。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

还具备设置在所述第二绝缘膜上以及所述第二栅电极上的第四绝缘膜，

所述第一晶体管具备：与所述多晶硅层连接的第一源电极和与所述多晶硅层连接的第一漏电极，

所述第一源电极设置于贯通所述第一绝缘膜、所述第二绝缘膜以及所述第四绝缘膜的第一接触孔，

所述第一漏电极设置于贯通所述第一绝缘膜、所述第二绝缘膜以及所述第四绝缘膜的第二接触孔。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，

还具备设置在所述第四绝缘膜上的保护膜，

所述第一晶体管具备与所述第一源电极连接的第二源电极和与所述第一漏电极连接的第二漏电极，

所述第二源电极设置于贯通所述保护膜的第三接触孔，

所述第二漏电极设置于贯通所述保护膜的第四接触孔。

4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，

所述第二晶体管具备：与所述氧化物半导体层连接的第三源电极和与所述氧化物半导体层连接的第三漏电极，

所述第三源电极设置于贯通所述第四绝缘膜以及所述保护膜的第五接触孔，

所述第三漏电极设置于贯通所述第四绝缘膜以及所述保护膜的第六接触孔。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的显示装置，其特征在于，

还具备设置在所述第一绝缘膜上以及所述第二绝缘膜上的第五绝缘膜，

所述氧化物半导体层设置在所述第五绝缘膜上，

所述第二晶体管具备设置于所述第一绝缘膜与所述第五绝缘膜之间的第三栅电极。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的显示装置，其特征在于，

所述第二栅电极设置为所述第二栅电极的位置与所述第三绝缘膜的位置匹配。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的显示装置，其特征在于，

所述第二绝缘膜以岛状设置于所述第一晶体管的位置。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的显示装置，其特征在于，

所述显示装置具备多个像素电路，

所述像素电路包括所述第一晶体管，

所述第一晶体管是驱动晶体管。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，

所述像素电路包括所述第二晶体管，

所述第二晶体管的导通端子与所述第一晶体管的控制端子连接。